[发明专利]一种对光箔进行检测以预判低压电子箔腐蚀后外观的均匀性的方法在审

专利信息
申请号: 201711023060.5 申请日: 2017-10-27
公开(公告)号: CN109724913A 公开(公告)日: 2019-05-07
发明(设计)人: 王洪飞;石阁;董煌成;刘军;谢金昌 申请(专利权)人: 东莞东阳光科研发有限公司
主分类号: G01N17/02 分类号: G01N17/02
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 巩克栋
地址: 523871 广东省东莞*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 腐蚀 低压电子 均匀性 光箔 预判 外观色差 腐蚀液 表面氧化膜 厚度均匀性 二级扩孔 局部分布 预先检测 不均匀 铝离子 氧化膜 检测 硫酸 盐酸 观察 保证
【说明书】:

发明公开了对光箔进行检测以预判低压电子箔腐蚀后外观的均匀性的方法,所述方法包括:采用腐蚀液对光箔依次进行一级发孔腐蚀和二级扩孔腐蚀,观察腐蚀后的光箔的外观色差变化,该变化与低压电子箔腐蚀后外观的均匀性一致,从而实现了对低压电子箔腐蚀后外观的均匀性的预判;其中,所述腐蚀液包括盐酸、水、硫酸和铝离子。通过本发明的方法在光箔阶段就可以预先检测出是否会产生腐蚀外观色差。而且,本发明还找到了腐蚀外观不均匀的主要原因是光箔表面氧化膜厚度局部分布不均,合理控制氧化膜厚度均匀性可以保证光箔腐蚀外观质量。

技术领域

本发明涉及低压电子箔腐蚀技术领域,涉及一种检测低压电子箔腐蚀后外观的均匀性的方法,尤其涉及一种对光箔进行检测以预判低压电子箔腐蚀后外观的均匀性的方法。

背景技术

低压软态箔的腐蚀工艺对光箔的肉眼不可见外观缺陷非常敏感,这些缺陷在腐蚀过程中会造成腐蚀箔表面的腐蚀不均现象,如局部发亮、发黑等。这些缺陷包括:带油残留、微观局部轻微腐蚀、氧化膜不均匀性和油膜的不均匀性等。这些表面缺陷肉眼不可见,光箔阶段无法判断是否会产生腐蚀外观色差;另外光箔腐蚀外观不均匀产生的主要原因不明确,光箔无法控制腐蚀外观色差。

上述这些问题在实际腐蚀厂家的生产中会产生非常不利的影响,实际腐蚀厂家多采用机台进行大批量的腐蚀生产,这种表面不可见缺陷的光箔只有在腐蚀得到成品之后才显现出各种局部表面缺陷,这无疑浪费了大量原材料,影响了生产效率并降低了产品质量。

因而,现有技术中存在的下述几点问题亟需解决,主要有:

1.低压软态光箔表面缺陷会造成腐蚀箔表面腐蚀不均匀;

2.表面缺陷肉眼不可见,光箔阶段无法判断是否会产生腐蚀外观色差;

3.光箔腐蚀外观不均匀产生的主要原因不明确,光箔无法控制腐蚀外观色差。

然后,在低压电子箔行业中,国内外的软态低压箔生产厂家及腐蚀厂家,都没有明确的检测和控制要求。同时,对于这些缺陷的影响,在低压电子箔行业内也没有任何可以供参考的资料和先例。

发明内容

针对现有技术中存在的上述问题,本发明的目的在于提供一种对光箔进行检测以预判低压电子箔腐蚀后外观的均匀性的方法。

为达上述目的,本发明采用以下技术方案:

一种对光箔进行检测以预判低压电子箔腐蚀后外观的均匀性的方法,所述方法包括以下步骤:

采用腐蚀液对光箔依次进行一级发孔腐蚀和二级扩孔腐蚀,观察腐蚀后的光箔的外观色差变化,该变化与低压电子箔腐蚀后外观的均匀性一致,从而实现了对低压电子箔腐蚀后外观的均匀性的预判;

其中,所述腐蚀液包括盐酸、水、硫酸和铝离子。

本发明所述“光箔”为未腐蚀的低压电子箔。

本发明所述“低压电子箔腐蚀后外观的均匀性”中,“腐蚀”与本发明的检测方法中涉及到的腐蚀不同。“低压电子箔腐蚀后外观的均匀性”中的“腐蚀”为腐蚀厂家实际生产机台腐蚀,而本发明的检测方法中涉及到的腐蚀为实验室腐蚀槽腐蚀。

本发明中,所述腐蚀后的光箔的外观色差变化包括发黑和发亮等色差。

本发明中,通过观察腐蚀后的光箔的外观色差变化,可以判断低压电子箔在相应方向上的腐蚀后外观的均匀性。本发明主要观察腐蚀后的光箔在横向的外观色差,以判断低压电子箔在横向上的腐蚀后外观的均匀性。

本发明的方法通过先发孔后扩孔的两级腐蚀方法,能够使腐蚀后的光箔呈现出腐蚀外观色差,从而可以检测出光箔肉眼不可见缺陷造成的横向外观腐蚀不匀,其机理在于光箔不可见缺陷横向分布不均匀。

本发明的方法能够较为准确地反映光箔表面不均匀性,适用于对低压软态光箔腐蚀外观的质量检测。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东莞东阳光科研发有限公司,未经东莞东阳光科研发有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711023060.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top