[发明专利]一种对光箔进行检测以预判低压电子箔腐蚀后外观的均匀性的方法在审
申请号: | 201711023060.5 | 申请日: | 2017-10-27 |
公开(公告)号: | CN109724913A | 公开(公告)日: | 2019-05-07 |
发明(设计)人: | 王洪飞;石阁;董煌成;刘军;谢金昌 | 申请(专利权)人: | 东莞东阳光科研发有限公司 |
主分类号: | G01N17/02 | 分类号: | G01N17/02 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 巩克栋 |
地址: | 523871 广东省东莞*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 腐蚀 低压电子 均匀性 光箔 预判 外观色差 腐蚀液 表面氧化膜 厚度均匀性 二级扩孔 局部分布 预先检测 不均匀 铝离子 氧化膜 检测 硫酸 盐酸 观察 保证 | ||
本发明公开了对光箔进行检测以预判低压电子箔腐蚀后外观的均匀性的方法,所述方法包括:采用腐蚀液对光箔依次进行一级发孔腐蚀和二级扩孔腐蚀,观察腐蚀后的光箔的外观色差变化,该变化与低压电子箔腐蚀后外观的均匀性一致,从而实现了对低压电子箔腐蚀后外观的均匀性的预判;其中,所述腐蚀液包括盐酸、水、硫酸和铝离子。通过本发明的方法在光箔阶段就可以预先检测出是否会产生腐蚀外观色差。而且,本发明还找到了腐蚀外观不均匀的主要原因是光箔表面氧化膜厚度局部分布不均,合理控制氧化膜厚度均匀性可以保证光箔腐蚀外观质量。
技术领域
本发明涉及低压电子箔腐蚀技术领域,涉及一种检测低压电子箔腐蚀后外观的均匀性的方法,尤其涉及一种对光箔进行检测以预判低压电子箔腐蚀后外观的均匀性的方法。
背景技术
低压软态箔的腐蚀工艺对光箔的肉眼不可见外观缺陷非常敏感,这些缺陷在腐蚀过程中会造成腐蚀箔表面的腐蚀不均现象,如局部发亮、发黑等。这些缺陷包括:带油残留、微观局部轻微腐蚀、氧化膜不均匀性和油膜的不均匀性等。这些表面缺陷肉眼不可见,光箔阶段无法判断是否会产生腐蚀外观色差;另外光箔腐蚀外观不均匀产生的主要原因不明确,光箔无法控制腐蚀外观色差。
上述这些问题在实际腐蚀厂家的生产中会产生非常不利的影响,实际腐蚀厂家多采用机台进行大批量的腐蚀生产,这种表面不可见缺陷的光箔只有在腐蚀得到成品之后才显现出各种局部表面缺陷,这无疑浪费了大量原材料,影响了生产效率并降低了产品质量。
因而,现有技术中存在的下述几点问题亟需解决,主要有:
1.低压软态光箔表面缺陷会造成腐蚀箔表面腐蚀不均匀;
2.表面缺陷肉眼不可见,光箔阶段无法判断是否会产生腐蚀外观色差;
3.光箔腐蚀外观不均匀产生的主要原因不明确,光箔无法控制腐蚀外观色差。
然后,在低压电子箔行业中,国内外的软态低压箔生产厂家及腐蚀厂家,都没有明确的检测和控制要求。同时,对于这些缺陷的影响,在低压电子箔行业内也没有任何可以供参考的资料和先例。
发明内容
针对现有技术中存在的上述问题,本发明的目的在于提供一种对光箔进行检测以预判低压电子箔腐蚀后外观的均匀性的方法。
为达上述目的,本发明采用以下技术方案:
一种对光箔进行检测以预判低压电子箔腐蚀后外观的均匀性的方法,所述方法包括以下步骤:
采用腐蚀液对光箔依次进行一级发孔腐蚀和二级扩孔腐蚀,观察腐蚀后的光箔的外观色差变化,该变化与低压电子箔腐蚀后外观的均匀性一致,从而实现了对低压电子箔腐蚀后外观的均匀性的预判;
其中,所述腐蚀液包括盐酸、水、硫酸和铝离子。
本发明所述“光箔”为未腐蚀的低压电子箔。
本发明所述“低压电子箔腐蚀后外观的均匀性”中,“腐蚀”与本发明的检测方法中涉及到的腐蚀不同。“低压电子箔腐蚀后外观的均匀性”中的“腐蚀”为腐蚀厂家实际生产机台腐蚀,而本发明的检测方法中涉及到的腐蚀为实验室腐蚀槽腐蚀。
本发明中,所述腐蚀后的光箔的外观色差变化包括发黑和发亮等色差。
本发明中,通过观察腐蚀后的光箔的外观色差变化,可以判断低压电子箔在相应方向上的腐蚀后外观的均匀性。本发明主要观察腐蚀后的光箔在横向的外观色差,以判断低压电子箔在横向上的腐蚀后外观的均匀性。
本发明的方法通过先发孔后扩孔的两级腐蚀方法,能够使腐蚀后的光箔呈现出腐蚀外观色差,从而可以检测出光箔肉眼不可见缺陷造成的横向外观腐蚀不匀,其机理在于光箔不可见缺陷横向分布不均匀。
本发明的方法能够较为准确地反映光箔表面不均匀性,适用于对低压软态光箔腐蚀外观的质量检测。
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