[发明专利]阵列基板及其制造方法、显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板制造方法，其特征在于，包括：在基板上设置若干检测像素单元；

所述检测像素单元的制造方法包括：

形成至少两条数据线，在所述数据线上形成缓冲层；

在所述缓冲层上形成设有过孔的有机膜；所述过孔与两条相邻的数据线在所述基板上的正投影部分重叠；

在所述有机膜上形成第一导电层；

其中，所述缓冲层形成失败时，所述第一导电层通过所述过孔短接所述相邻的数据线。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述形成至少两条数据线，在各所述数据线上形成缓冲层包括：

形成至少两条平行的数据线；

在两条相邻的数据线中分别形成相向的延伸区域；所述过孔与所述延伸区域在所述基板上的正投影部分重叠；

在所述数据线上形成缓冲层。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述形成至少两条数据线，在所述数据线上形成缓冲层之前还包括：

在基板上形成栅极层，在所述栅极层上形成栅极绝缘层，以及，在所述栅极绝缘层上形成有源层。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述检测像素单元的制造方法还包括：

在所述有源层上形成所述数据线时同步形成源漏极；在所述数据线、所述源漏极和所述有源层上形成所述缓冲层。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述在所述有机膜上形成第一导电层之后还包括：

在所述第一导电层上形成钝化层；以及，

在所述钝化层上形成第二导电层。

6.根据权利要求1-5任一项所述的方法，其特征在于，所述检测像素单元设置在虚拟像素区域。

7.一种阵列基板，其特征在于，设置有若干检测像素单元，所述检测像素单元包括：

至少两条数据线；

缓冲层，位于所述数据线上；

有机膜，设有过孔，所述有机膜位于所述缓冲层上，所述过孔与两条相邻的数据线在所述基板上的正投影部分重叠；

第一导电层，位于所述有机膜上；

其中，所述缓冲层缺失时，所述第一导电层通过所述过孔短接所述相邻的数据线。

8.根据权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述数据线相互平行，所述数据线包括延伸区域，所述相邻的数据线的延伸区域相向设置，所述过孔与所述延伸区域在所述基板上的正投影部分重叠。

9.根据权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述检测像素单元还包括：

栅极层，位于基板上；

栅极绝缘层，位于所述栅极层上；

有源层，位于所述栅极绝缘层上；

所述数据线位于所述有源层上。

10.根据权利要求9所述的阵列基板，其特征在于，所述检测像素单元还包括：

源漏极，位于所述有源层上；

所述缓冲层位于所述数据线、所述源漏极和所述有源层上。

11.根据权利要求10所述的阵列基板，其特征在于，所述检测像素单元还包括：

钝化层，位于所述第一导电层上；

第二导电层，位于所述钝化层上。

12.根据权利要求7-11任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述检测像素单元设置在虚拟像素区域。

13.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求7-12任一项所述的阵列基板。