[发明专利]阵列基板及其制造方法、显示装置

说明书

本发明提供一种阵列基板及其制造方法、显示装置，该制造方法包括：在基板上设置若干检测像素单元。该检测像素单元的制造方法包括：形成至少两条数据线，在数据线上形成缓冲层；在该缓冲层上形成设有过孔的有机膜；该过孔与两条相邻的数据线在基板上的正投影部分重叠；在该有机膜上形成第一导电层。其中，该缓冲层形成失败时，该第一导电层通过该过孔短接该相邻的数据线。本发明提供的阵列基板及其制造方法、显示装置通过在有机膜上设置覆盖到相邻数据线的过孔，使得第一导电层能在缓冲层形成失败时通过该过孔短接相邻的数据线，从而在阵列检测中检测到相邻数据线短路的信号，检测出缓冲层缺失的问题，以避免产品的品质风险隐患。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种阵列基板及其制造方法、显示装置。

背景技术

采用有机膜工艺能有效降低数据线和公共电极间的耦合电容，提升产品开口率，从而降低薄膜晶体管液晶显示器的产品功耗，近年来得到了很广泛的应用。然而，有机膜在使用过程中可能会发生分解，污染其相邻的膜层结构，为了解决该问题，一般在有机膜的下方设置有缓冲层，但是由于设备异常或工艺失误造成缓冲层未形成时，会造成产品的品质风险，因此，需要及时检测出缓冲层缺失的不良。

发明内容

鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，期望提供一种能检测出有机膜下的缓冲层缺失导致的产品不良，以避免产品品质风险的阵列基板及其制造方法、显示装置。

第一方面，本发明提供一种阵列基板制造方法，包括：在基板上设置若干检测像素单元。

该检测像素单元的制造方法包括：

形成至少两条数据线，在数据线上形成缓冲层；

在该缓冲层上形成设有过孔的有机膜；该过孔与两条相邻的数据线在基板上的正投影部分重叠；

在该有机膜上形成第一导电层。

其中，该缓冲层形成失败时，该第一导电层通过该过孔短接该相邻的数据线。

第二方面，本发明提供一种阵列基板，该阵列基板设置有若干检测像素单元。该检测像素单元包括：

至少两条数据线；

缓冲层，位于数据线上；

有机膜，设有过孔，位于该缓冲层上，该过孔与两条相邻的数据线在基板上的正投影部分重叠；

第一导电层，位于该有机膜上；

其中，该缓冲层缺失时，该第一导电层通过该过孔短接该相邻的数据线。

第三方面，本发明还提供一种显示装置，该显示装置包括上述阵列基板。

本发明诸多实施例提供的阵列基板及其制造方法、显示装置通过在有机膜上设置覆盖到相邻数据线的过孔，使得第一导电层能在缓冲层形成失败时通过该过孔短接相邻的数据线，从而在阵列检测中检测到相邻数据线短路的信号，检测出缓冲层缺失的问题，以避免产品的品质风险隐患；

本发明一些实施例提供的阵列基板及其制造方法、显示装置进一步通过设置包括延伸区域的数据线，使得相邻数据线的延伸区域相向设置以减小有机膜过孔所需覆盖的范围，减小了过孔的面积，从而避免了过孔因需要覆盖较大范围而导致产品性能不稳定的风险；

本发明一些实施例提供的阵列基板及其制造方法、显示装置进一步通过将检测像素单元设置在虚拟像素区域，无需改变正常像素区域的制造工艺，避免影响正常像素区域。

附图说明

通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显：

图1为一种相关技术的包含有机膜的阵列基板的制作工艺流程示意图。