[发明专利]杂质除去装置和具有该杂质除去装置的循环气体回收精制系统

权利要求书

1.一种杂质除去装置，用于从准分子激光装置排出的、至少含有氖气和第1稀有气体的排气中除去杂质，

具有：

杂质浓度检测部，其测定所述排气流经的排出管线的所述排气中的所述杂质的浓度，

转变部，其基于所述杂质浓度检测部的测定结果，将所述排气中的所述杂质通过等离子体分解而变为别的物质，

除去部，其使通过所述转变部而变成的物质与规定的反应剂反应，从所述排气中除去，

释放管线和/或旁路管线，所述释放管线基于所述杂质浓度检测部的测定结果，将所述排气向外界释放，所述旁路管线基于所述杂质浓度检测部的测定结果，将所述排气送向与杂质除去装置的后段连接着的循环气体回收精制系统，以及

处理选择部，其基于所述杂质浓度检测部的测定结果，从向外界放气的第1处理、实施除去处理的第2处理、以及将所述排气送向与杂质除去装置的后段连接着的循环气体回收精制系统的第3处理中选择任一种处理，

在所述处理选择部选择所述第1处理时，通过所述释放管线向外界释放所述排气，

在所述处理选择部选择所述第2处理时，通过设置在除去处理管线上的所述转变部和所述除去部来从所述排气中除去杂质，所述除去处理管线用于将所述排气送向与杂质除去装置的后段连接着的循环气体回收精制系统，

在所述处理选择部选择所述第3处理时，通过所述旁路管线将所述排气送向与杂质除去装置的后段连接着的循环气体回收精制系统。

2.如权利要求1所述的杂质除去装置，还具有：

流量测定部，其测定所述排气的流量，以及

更换时期判断部，其基于所述流量测定部的测定值和所述杂质浓度检测部的测定值来计算出所述杂质的量，求出所述除去部的所述规定的反应剂的更换时期。

3.如权利要求1所述的杂质除去装置，在所述杂质浓度检测部测定所述排气中的CF₄浓度时，

当CF₄浓度为第1阈值以上时，所述处理选择部选择所述第1处理，

当CF₄浓度比小于所述第1阈值的第2阈值大、且小于所述第1阈值时，所述处理选择部选择所述第2处理，

当CF₄浓度小于所述第2阈值时，所述处理选择部选择所述第3处理。

4.如权利要求1所述的杂质除去装置，在所述杂质浓度检测部测定所述排气中的CF₄、N₂和He的浓度时，

(a)当He浓度为第3阈值以上时所述处理选择部选择所述第1处理，

(b)当CF₄或N₂中的任一者是所述第1阈值以上时，所述处理选择部选择所述第1处理，

(c)当He浓度小于第3阈值，CF₄或N₂中的任一者为所述第2阈值以上且小于所述第1阈值，并且浓度的大小关系满足N₂＞(1/2)×CF₄时，所述处理选择部选择所述第1处理，

(d)当He浓度小于第3阈值，N₂或CF₄的浓度为所述第2阈值以上且小于所述第1阈值，并且浓度的大小关系满足N₂＜(1/2)×CF₄时，所述处理选择部选择所述第2处理，

(e)当He浓度小于第3阈值，N₂或CF₄的浓度小于所述第2阈值时，所述处理选择部选择所述第3处理。

5.一种循环气体回收精制系统，用于从制造系统排出的排气中回收精制循环气体，所述制造系统具有：将至少含有氖气和第1稀有气体的混合稀有气体以第1压力供给的供给管线，利用该混合稀有气体的准分子激光装置，以及、至少将从该准分子激光装置排出的排气排出去的排出管线，

所述循环气体回收精制系统具有：

权利要求1～4中的任一项所述的杂质除去装置，

从所述排气中除去第1杂质的第1杂质除去部，以及

比所述第1杂质除去部更靠排气路径下游侧配置的、从除去所述第1杂质后的排气中除去第2杂质的第2杂质除去部。