[发明专利]杂质除去装置和具有该杂质除去装置的循环气体回收精制系统

说明书

本发明的课题是提供一种杂质除去装置，其在将由准分子激光装置排出的含有第1稀有气体和氖气的排气送向后段的工序时，能够基于排气中的杂质浓度来控制除去处理的有无和是否向外界放气。为此，提高了一种杂质除去装置，其具有：杂质浓度检测部，其测定排气流经的排出管线的排气中的杂质浓度；转变部，其基于杂质浓度检测部的测定结果，将排气中的杂质通过等离子体分解而变为别的物质；以及除去部，其使通过转变部而变成的物质与规定的反应剂反应，将其从排气中除去。杂质除去装置还可以具有基于杂质浓度检测部的测定结果、将排气向外界释放的释放管线。

技术领域

本发明涉及能够从例如使用了含有稀有气体和氖气的混合气体的准分子激光装置所排出的排气中除去杂质的杂质除去装置、和具有该杂质除去装置的循环气体回收精制系统。

背景技术

作为从准分子激光发振器排出的气体的再利用工序中除去氟化合物的方法的一个例子，有专利文献1。

此外，作为使排气中的CF₄分解的方法，专利文献2公开了使用无声放电的方法，非专利文献1公开了电晕放电的方法。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2010-92920号公报

专利文献2：日本特开2006-110461号公报

非专利文献

非专利文献1：T.IEEE Japan，Vol.117-A，No.10(1997)“コロナ放電によるエキシマガス中のガス状不純物の除去(利用电晕放电除去准分子气体中的气体状杂质)”

发明内容

发明要解决的课题

专利文献1的杂质除去装置中具有利用沸石等除去含有CF₄的杂质的工序，但存在在导入含有高浓度CF₄的排气时CF₄不能分解干净的问题。因此，如果将准分子激光装置中产生的CF₄反复进行回收精制工序，则CF₄浓度慢慢地上升，这成为准分子激光装置中激光脉冲输出能降低等不良情况发生的要因。此外，存在CF₄分解时产生氧气这样的新杂质的问题。

专利文献2的通过无声放电分解排气中的CF₄的方法，尽管能够分解处理较高浓度的CF₄，但存在分解后残留一定量的CF₄的问题。

非专利文献1的通过电晕放电分解排气中的CF₄的方法，存在电极容易氟化劣化的问题。

本发明鉴于上述现状而完成，目的在于提供一种杂质除去装置，其在将由例如准分子激光装置排出的含有第1稀有气体和氖气的排气送向后段的工序时，能够基于排气中的杂质(例如，CF₄、N₂、He等)的浓度来控制除去处理的有无和是否向外界放气。

此外，目的在于提供一种循环气体回收精制系统，其具有上述杂质除去装置，其能够例如，从排气中除去杂质而将必要的稀有气体留下来，将循环气体(例如，稀有气体和氖气)供给制造系统。

解决课题的手段

本发明的杂质除去装置，用于从准分子激光装置排出的、至少含有氖气和第1稀有气体的排气中除去杂质，

具有：

杂质浓度检测部，其测定所述排气流经的排出管线的所述排气中的所述杂质的浓度，

转变部，其基于所述杂质浓度检测部的测定结果，将所述排气中的所述杂质通过等离子体分解而变为别的物质，