[发明专利]蚀刻组合物

权利要求书

1.一种蚀刻组合物，其中，包含下述化学式1所表示的第一螯合剂和具有2个以上酸基的第二螯合剂，

化学式1

化学式1中，

R1、R2和R3各自独立地为-C(＝O)OM1或-CH2C(＝O)OM2，M1和M2各自独立地为氢或碱金属，

R4为氢、羟基(C1-C7)烷基、-C(＝O)OM3或-CH2C(＝O)OM4，M3和M4各自独立地为氢或碱金属，

A为直接键合、(C2-C7)亚烷基或氨基(C1-C7)亚烷基。

2.根据权利要求1所述的蚀刻组合物，其为过氧化氢系蚀刻组合物。

3.根据权利要求2所述的蚀刻组合物，其中，还包含己胺作为双氧水稳定剂。

4.根据权利要求1所述的蚀刻组合物，其中，所述第一螯合剂为选自亚氨基二琥珀酸、亚氨基二琥珀酸四钠盐、乙二胺二琥珀酸、乙二胺二琥珀酸三钠盐和聚亚氨基二琥珀酸中的一种以上，所述第二螯合剂为亚氨基二乙酸。

5.根据权利要求2或3所述的蚀刻组合物，其中，还包含选自蚀刻抑制剂、蚀刻添加剂、氟化合物和底切抑制剂中的一种以上。

6.根据权利要求5所述的蚀刻组合物，其中，所述蚀刻抑制剂为在分子内包含选自氧、硫和氮中的一种以上杂原子的杂环化合物。

7.根据权利要求6所述的蚀刻组合物，其中，所述杂环化合为选自唑、咪唑、吡唑、三唑、四唑、5-氨基四唑、5-甲基四唑、哌嗪、甲基哌嗪、羟基乙基哌嗪、苯并咪唑、苯并吡唑、甲基苯并三唑、氢甲基苯并三唑、羟基甲基苯并三唑、吲哚、嘌呤、吡啶、嘧啶、吡咯和吡咯啉中的一种以上。

8.根据权利要求5所述的蚀刻组合物，其中，所述蚀刻添加剂为选自无机酸、有机酸、无机酸盐和有机酸盐中的一种以上。

9.根据权利要求8所述的蚀刻组合物，其中，所述无机酸为选自硫酸、硝酸和磷酸中的一种以上，所述有机酸为选自乙酸、甲酸、丁酸、柠檬酸、乙醇酸、草酸、丙二酸、戊酸、丙酸、酒石酸、葡糖酸和琥珀酸中的一种以上，所述无机酸盐为选自碳酸盐、氢氧化物盐、磷酸盐和硼酸盐中的一种以上，所述有机酸盐为选自琥珀酸钠、琥珀酸钾、柠檬酸钠、柠檬酸钾、丙二酸钠、丙二酸钾、乙酸钠、乙酸钾、乳酸钠、乳酸钾和乳酸钙中的一种以上。