[发明专利]蚀刻组合物

权利要求书

1.一种蚀刻组合物，其中，包含：

过氧化氢；

助氧化剂，其为选自银、铁、铜、镍、锰和铈中的一种以上的离子或者包含这些离子的有机或无机化合物；

防腐蚀剂；以及

双氧水稳定剂，其为脂肪族环酮化合物、内酯化合物或它们的混合物。

2.根据权利要求1所述的蚀刻组合物，其中，所述双氧水稳定剂相对于蚀刻组合物总重量包含0.1至5重量％。

3.根据权利要求1所述的蚀刻组合物，其中，所述脂肪族环酮化合物为下述化学式1的化合物，所述内酯 化合物为下述化学式2或化学式3的化合物，

化学式1

化学式2

化学式3

所述化学式1至3中，

R₁至R₈、R₁₁至R₁₆以及R₂₁至R₂₄彼此独立地为氢、羟基、(C1-C10)烷基、羟基(C1-C10)烷基、(C1-C10)烷氧基或(C6-C12)芳基，

n和m彼此独立地为0至7的整数。

4.根据权利要求3所述的蚀刻组合物，其中，

所述R₁至R₈彼此独立地为氢或(C1-C10)烷基；

R₁₁至R₁₆彼此独立地为氢、羟基、(C1-C10)烷基或羟基(C1-C10)烷基；

R₂₁至R₂₄彼此独立地为氢或(C1-C10)烷基；

n和m彼此独立地为0至5的整数。

5.根据权利要求1所述的蚀刻组合物，其中，所述双氧水稳定剂选自下述化合物中：

6.根据权利要求1所述的蚀刻组合物，其中，所述助氧化剂相对于过氧化氢100重量份包含0.02至10重量份。

7.根据权利要求1所述的蚀刻组合物，其中，所述助氧化剂包含铜或铁离子。

8.根据权利要求1所述的蚀刻组合物，其中，所述防腐蚀剂为在分子内包含选自氧、硫和氮中的一种或两种以上杂原子的杂环化合物。

9.根据权利要求1所述的蚀刻组合物，其中，所述蚀刻组合物进一步含有含氟化合物和包含磺酸基的化合物。

10.根据权利要求9所述的蚀刻组合物，其中，所述含氟化合物为能够被解离而提供氟离子(F^-)或氟化氢根离子(HF₂^-)的化合物。

11.根据权利要求9所述的蚀刻组合物，其中，所述包含磺酸基的化合物为选自烷基磺酸盐、亚烷基二磺酸盐、烷基苯磺酸盐、烷基萘磺酸盐、烷基苯基醚二磺酸盐、甲醛与萘磺酸盐的聚合物、丙烯酰胺甲基丙磺酸盐的聚合物、丙烯酸与丙烯酰胺甲基丙磺酸盐的共聚物、以及乙烯基苯磺酸盐聚合物中的一种以上。

12.根据权利要求9所述的蚀刻组合物，其中，所述蚀刻组合物包含5至30重量％的过氧化氢、0.0001至2重量％的助氧化剂、0.01至2重量％的防腐蚀剂、0.01至1重量％的含氟化合物、0.01至5重量％的双氧水稳定剂、0.001至2重量％的包含磺酸基的化合物及余量的水。