[发明专利]显示装置的盖板及其制作方法有效
申请号: | 201711053823.0 | 申请日: | 2017-10-31 |
公开(公告)号: | CN107818736B | 公开(公告)日: | 2019-05-21 |
发明(设计)人: | 杨勇;杨映保 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G09F9/30 | 分类号: | G09F9/30;G02B1/10;G02B5/00;H04M1/02;H05K5/03 |
代理公司: | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人: | 孙伟峰;阳志全 |
地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示装置 盖板 及其 制作方法 | ||
1.一种盖板的制作方法,其特征在于,包括:
提供一透明板(11),并在所述透明板(11)的上表面涂布一层第一有机材料层(1);
在所述第一有机材料层(1)上形成间隔设置的第一通孔(H);
加热所述第一有机材料层(1),使所述第一有机材料层(1)熔融而流动以缩小所述第一通孔(H)的孔径;
对所述透明板(11)上设有所述第一有机材料层(1)的面进行湿蚀刻,使所述透明板(11)上未被所述第一有机材料层(1)遮挡的区域形成凹陷的第一微槽(110);
清洗所述透明板(11),去除所述透明板(11)表面的所述第一有机材料层(1)。
2.根据权利要求1所述的盖板的制作方法,其特征在于,还包括:在所述透明板(11)的上表面涂布第一有机材料层(1)之前,清洗所述透明板(11)。
3.根据权利要求1所述的盖板的制作方法,其特征在于,所述在所述第一有机材料层(1)形成间隔设置的第一通孔(H),包括:
在所述第一有机材料层(1)表面涂布一层第一光阻层(2),所述第一光阻层(2)采用正型光阻材料;
将第一光罩(3)遮挡在所述第一光阻层(2)上方,所述第一光罩(3)上开设有第一透光孔(30);
透过所述第一透光孔(30)对所述第一光阻层(2)曝光,显影后蚀刻掉所述第一透光孔(30)正对的有机材料,得到表面具有所述第一通孔(H)的所述第一有机材料层(1)。
4.根据权利要求3所述的盖板的制作方法,其特征在于,所述第一透光孔(30)的孔径大小为1μm~5μm,所述第一通孔(H)大小为1μm~3μm。
5.根据权利要求4所述的盖板的制作方法,其特征在于,所述第一透光孔(30)为喇叭孔,且越靠近所述第一有机材料层(1),所述第一透光孔(30)的孔径越小。
6.根据权利要求1所述的盖板的制作方法,其特征在于,所述第一有机材料层(1)为聚苯乙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚乙烯或聚丙烯。
7.根据权利要求1-6任一所述的盖板的制作方法,其特征在于,还包括:在所述透明板(11)具有所述第一微槽(110)的面上制作凹陷的第二微槽(120),且所述第二微槽(120)与所述第一微槽(110)错开一定距离。
8.根据权利要求7所述的盖板的制作方法,其特征在于,制作所述第二微槽(120)的过程包括:
在表面形成有所述第一微槽(110)的所述透明板(11)表面涂布一层第二有机材料层(1');
在所述第二有机材料层(1')上形成间隔设置的第二通孔(H'),所述第二通孔(H')在所述透明板(11)上的投影与所述第一微槽(110)错开设置;
加热所述第二有机材料层(1'),使所述第二有机材料层(1')熔融而流动;
对所述透明板(11)上设有所述第二有机材料层(1')的面进行湿蚀刻,使所述透明板(11)上未被所述第二有机材料层(1')遮挡的区域形成所述第二微槽(120);
清洗所述透明板(11),去除所述透明板(11)表面的所述第二有机材料层(1')。
9.根据权利要求8所述的盖板的制作方法,其特征在于,所述在所述第二有机材料层(1')上形成间隔设置的第二通孔(H'),包括:
在所述第二有机材料层(1')表面涂布一层第二光阻层(2'),所述第二光阻层(2')采用正型光阻材料;
将第二光罩(3')遮挡在所述第二光阻层(2')上方,所述第二光罩(3')上开设有第二透光孔(30'),所述第二透光孔(30')在所述透明板(11)上的投影与所述第一微槽(110)错开设置;
透过所述第二透光孔(30')对所述第二光阻层(2')曝光,显影后蚀刻掉所述第二透光孔(30')正对的有机材料,得到表面具有所述第二通孔(H')的所述第二有机材料层(1')。
10.一种显示装置的盖板,其特征在于,采用权利要求1-9任一所述的盖板的制作方法制作。
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