[发明专利]显示装置的盖板及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201711053823.0 申请日: 2017-10-31
公开(公告)号: CN107818736B 公开(公告)日: 2019-05-21
发明(设计)人: 杨勇;杨映保 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G09F9/30 分类号: G09F9/30;G02B1/10;G02B5/00;H04M1/02;H05K5/03
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 孙伟峰;阳志全
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示装置 盖板 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种盖板的制作方法,其特征在于,包括:

提供一透明板(11),并在所述透明板(11)的上表面涂布一层第一有机材料层(1);

在所述第一有机材料层(1)上形成间隔设置的第一通孔(H);

加热所述第一有机材料层(1),使所述第一有机材料层(1)熔融而流动以缩小所述第一通孔(H)的孔径;

对所述透明板(11)上设有所述第一有机材料层(1)的面进行湿蚀刻,使所述透明板(11)上未被所述第一有机材料层(1)遮挡的区域形成凹陷的第一微槽(110);

清洗所述透明板(11),去除所述透明板(11)表面的所述第一有机材料层(1)。

2.根据权利要求1所述的盖板的制作方法,其特征在于,还包括:在所述透明板(11)的上表面涂布第一有机材料层(1)之前,清洗所述透明板(11)。

3.根据权利要求1所述的盖板的制作方法,其特征在于,所述在所述第一有机材料层(1)形成间隔设置的第一通孔(H),包括:

在所述第一有机材料层(1)表面涂布一层第一光阻层(2),所述第一光阻层(2)采用正型光阻材料;

将第一光罩(3)遮挡在所述第一光阻层(2)上方,所述第一光罩(3)上开设有第一透光孔(30);

透过所述第一透光孔(30)对所述第一光阻层(2)曝光,显影后蚀刻掉所述第一透光孔(30)正对的有机材料,得到表面具有所述第一通孔(H)的所述第一有机材料层(1)。

4.根据权利要求3所述的盖板的制作方法,其特征在于,所述第一透光孔(30)的孔径大小为1μm~5μm,所述第一通孔(H)大小为1μm~3μm。

5.根据权利要求4所述的盖板的制作方法,其特征在于,所述第一透光孔(30)为喇叭孔,且越靠近所述第一有机材料层(1),所述第一透光孔(30)的孔径越小。

6.根据权利要求1所述的盖板的制作方法,其特征在于,所述第一有机材料层(1)为聚苯乙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚乙烯或聚丙烯。

7.根据权利要求1-6任一所述的盖板的制作方法,其特征在于,还包括:在所述透明板(11)具有所述第一微槽(110)的面上制作凹陷的第二微槽(120),且所述第二微槽(120)与所述第一微槽(110)错开一定距离。

8.根据权利要求7所述的盖板的制作方法,其特征在于,制作所述第二微槽(120)的过程包括:

在表面形成有所述第一微槽(110)的所述透明板(11)表面涂布一层第二有机材料层(1');

在所述第二有机材料层(1')上形成间隔设置的第二通孔(H'),所述第二通孔(H')在所述透明板(11)上的投影与所述第一微槽(110)错开设置;

加热所述第二有机材料层(1'),使所述第二有机材料层(1')熔融而流动;

对所述透明板(11)上设有所述第二有机材料层(1')的面进行湿蚀刻,使所述透明板(11)上未被所述第二有机材料层(1')遮挡的区域形成所述第二微槽(120);

清洗所述透明板(11),去除所述透明板(11)表面的所述第二有机材料层(1')。

9.根据权利要求8所述的盖板的制作方法,其特征在于,所述在所述第二有机材料层(1')上形成间隔设置的第二通孔(H'),包括:

在所述第二有机材料层(1')表面涂布一层第二光阻层(2'),所述第二光阻层(2')采用正型光阻材料;

将第二光罩(3')遮挡在所述第二光阻层(2')上方,所述第二光罩(3')上开设有第二透光孔(30'),所述第二透光孔(30')在所述透明板(11)上的投影与所述第一微槽(110)错开设置;

透过所述第二透光孔(30')对所述第二光阻层(2')曝光,显影后蚀刻掉所述第二透光孔(30')正对的有机材料,得到表面具有所述第二通孔(H')的所述第二有机材料层(1')。

10.一种显示装置的盖板,其特征在于,采用权利要求1-9任一所述的盖板的制作方法制作。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司,未经武汉华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711053823.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top