[发明专利]过孔连接结构及制造方法、阵列基板及制造方法、显示装置

说明书

一种过孔连接结构及其制作方法、阵列基板及其制作方法及显示装置，该过孔连接结构的制造方法包括：在基板上形成第一导电层并对第一导电层进行构图使得第一导电层包括第一导电图案，在第一导电图案之上形成第一光阻图案，第一光阻图案覆盖预定过孔区域；形成第一绝缘层以覆盖第一导电层以及第一光阻图案，对第一绝缘层进行构图以在预定过孔区域形成第一过孔，并暴露出第一光阻图案的至少部分；除去第一过孔中暴露出的第一光阻层的至少部分，然后形成第二导电层，其中第二导电层经第一过孔与第一导电层连接。该方法可以在不增加掩膜板数量的情况下保护第一金属层在刻蚀过孔时不被损伤。

技术领域

本发明的至少一个实施例涉及一种过孔连接结构及其制作方法、阵列基 板及其制造方法、显示装置。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示装置(TFT-LCD)是一种主要的平板显示装置 (FPD)。TFT-LCD阵列基板包括显示区域和周边区域。在显示区域，栅线 和数据线彼此交叉定义多个像素单元。栅线和数据线分别通过扇出线在阵列 基板周边区域的扇出区连接至扫描驱动器和数据驱动器。通常采用在扇出线 的上方刻蚀形成过孔连接结构形成连接结构，然而，刻蚀工艺容易对扇出线 造成损伤。

发明内容

本发明的实施例提供了一种过孔连接结构，包括依次层叠设置的第一导 电层、光阻层、第一绝缘层和第二导电层，所述第二导电层通过贯穿所述光 阻层和第一绝缘层的第一过孔与所述第一导电层连接。

例如，所述过孔连接结构还包括：位于所述第一绝缘层上的第三导电层 以及位于所述第三导电层上的第二绝缘层；所述第二导电层位于所述第二绝 缘层上，所述第一过孔贯穿所述光阻层、第一绝缘层和第二绝缘层，所述第 三导电层与所述第一过孔在所述基板上的正投影不重叠，所述第二导电层通 过贯穿所述第二绝缘层的第二过孔与所述第三导电层电连接。

本发明的实施例还提供一种阵列基板，所述阵列基板包括显示区和扇出 区，所述扇出区包括上述过孔连接结构。

本发明的实施例还提供一种过孔连接结构的制造方法，在基板上形成第 一导电层并对所述第一导电层进行构图使得所述第一导电层包括第一导电 图案，在所述第一导电图案之上形成第一光阻图案，所述第一光阻图案覆盖 预定过孔区域；形成第一绝缘层以覆盖所述第一导电层以及所述第一光阻图 案，对所述第一绝缘层进行构图以在所述预定过孔区域形成第一过孔，并暴 露出所述第一光阻图案的至少部分；除去所述第一过孔中暴露出的第一光阻 层的至少部分，然后形成第二导电层，其中所述第二导电层经所述第一过孔 与所述第一导电层连接。

例如，所述第一导电图案与所述第一光阻图案相同。

例如，所述第一导电图案与所述第一光阻图案不相同，并且对所述第一 导电层进行构图包括：在所述第一导电层上形成第一光阻层；采用半色调掩 膜板对所述第一光阻层进行曝光、显影以得到第一刻蚀掩模，采用所述第一 刻蚀掩模对所述第一导电层刻蚀以得到所述第一导电层图案，之后对所述第 一刻蚀掩模进行灰化工艺以得到在所述第一导电图案之上保留的所述第一 光阻图案。

例如，在形成所述第一绝缘层后形成所述第二导电层前，还包括：在所 述第一绝缘层上依次形成第三导电层和第二绝缘层，所述第三导电层与所述 预定过孔区域在所述基板的正投影不重叠；对所述第一绝缘层进行构图包括 形成贯穿所述第一绝缘层和所述第二绝缘层的所述第一过孔，以及贯穿所述 第二绝缘层的第二过孔；所述第二导电层分别经所述第一过孔和所述第二过 孔与所述第一导电层和所述第三导电层连接。

例如，对所述第一绝缘层进行构图包括：在所述第一绝缘层上形成第二 光阻层，对所述第二光阻层进行曝光、显影使得所述第二光阻层形成第二刻 蚀掩模，并采用所述第二刻蚀掩模进行刻蚀形成所述第一过孔，去除所述第 二刻蚀掩模且同时去除所述第一过孔中暴露的第一光阻层的至少部分。