[发明专利]用于双面抛光机的上盘摆动及定位装置在审
申请号: | 201711058296.2 | 申请日: | 2017-11-01 |
公开(公告)号: | CN107855894A | 公开(公告)日: | 2018-03-30 |
发明(设计)人: | 戴瑜兴;杨佳葳;蒋罗雄;杨宇 | 申请(专利权)人: | 湖南宇晶机器股份有限公司 |
主分类号: | B24B27/00 | 分类号: | B24B27/00;B24B37/08;B24B37/34;B24B55/00 |
代理公司: | 长沙明新专利代理事务所(普通合伙)43222 | 代理人: | 徐新 |
地址: | 413001 湖南省益*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 双面 抛光机 上盘 摆动 定位 装置 | ||
1.用于双面抛光机的上盘摆动及定位装置,其特征在于:包括摆动气缸、定位气缸、上盘安装座、旋转轴、摆动气缸支座、旋转座、限位块、连接杆、主轴和上盘组件;所述摆动气缸的一端与上盘安装座固定连接,另一端与摆动气缸支座固定连接,所述摆动气缸支座套于旋转座上,并固定连接;所述定位气缸的一端与上盘安装座固定连接,另一端与连接杆相连,所述连接杆另一端与限位块固定连接,所述旋转座上设有与限位块相匹配的凹槽;所述主轴与旋转轴分别穿入上盘安装座两端,所述主轴下端与上盘组件连接,所述旋转座与旋转轴固定连接。
2.根据权利要求1所述的用于双面抛光机的上盘摆动及定位装置,其特征在于:所述摆动气缸支座通过连接件与旋转座固定连接。
3.根据权利要求1或2所述的用于双面抛光机的上盘摆动及定位装置,其特征在于:所述主轴下端通过万向装置与上盘组件相连接。
4.根据权利要求1或2所述的用于双面抛光机的上盘摆动及定位装置,其特征在于:还设有端盖,所述端盖安装在旋转座与上盘安装座之间。
5.根据权利要求4所述的用于双面抛光机的上盘摆动及定位装置,其特征在于:所述端盖通过连接件与上盘安装座固定连接。
6.根据权利要求4所述的用于双面抛光机的上盘摆动及定位装置,其特征在于:所述主轴下端通过万向装置与上盘组件相连接。
7.根据权利要求5所述的用于双面抛光机的上盘摆动及定位装置,其特征在于:所述主轴下端通过万向装置与上盘组件相连接。
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