[发明专利]用于双面抛光机的上盘摆动及定位装置在审

专利信息
申请号: 201711058296.2 申请日: 2017-11-01
公开(公告)号: CN107855894A 公开(公告)日: 2018-03-30
发明(设计)人: 戴瑜兴;杨佳葳;蒋罗雄;杨宇 申请(专利权)人: 湖南宇晶机器股份有限公司
主分类号: B24B27/00 分类号: B24B27/00;B24B37/08;B24B37/34;B24B55/00
代理公司: 长沙明新专利代理事务所(普通合伙)43222 代理人: 徐新
地址: 413001 湖南省益*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 用于 双面 抛光机 上盘 摆动 定位 装置
【权利要求书】:

1.用于双面抛光机的上盘摆动及定位装置,其特征在于:包括摆动气缸、定位气缸、上盘安装座、旋转轴、摆动气缸支座、旋转座、限位块、连接杆、主轴和上盘组件;所述摆动气缸的一端与上盘安装座固定连接,另一端与摆动气缸支座固定连接,所述摆动气缸支座套于旋转座上,并固定连接;所述定位气缸的一端与上盘安装座固定连接,另一端与连接杆相连,所述连接杆另一端与限位块固定连接,所述旋转座上设有与限位块相匹配的凹槽;所述主轴与旋转轴分别穿入上盘安装座两端,所述主轴下端与上盘组件连接,所述旋转座与旋转轴固定连接。

2.根据权利要求1所述的用于双面抛光机的上盘摆动及定位装置,其特征在于:所述摆动气缸支座通过连接件与旋转座固定连接。

3.根据权利要求1或2所述的用于双面抛光机的上盘摆动及定位装置,其特征在于:所述主轴下端通过万向装置与上盘组件相连接。

4.根据权利要求1或2所述的用于双面抛光机的上盘摆动及定位装置,其特征在于:还设有端盖,所述端盖安装在旋转座与上盘安装座之间。

5.根据权利要求4所述的用于双面抛光机的上盘摆动及定位装置,其特征在于:所述端盖通过连接件与上盘安装座固定连接。

6.根据权利要求4所述的用于双面抛光机的上盘摆动及定位装置,其特征在于:所述主轴下端通过万向装置与上盘组件相连接。

7.根据权利要求5所述的用于双面抛光机的上盘摆动及定位装置,其特征在于:所述主轴下端通过万向装置与上盘组件相连接。

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