[发明专利]抗衰减电容器薄膜

权利要求书

1.抗衰减电容器薄膜，其特征在于，包括基膜(1)、金属层和硅油保护层(5)，所述金属层设置在所述基膜(1)上，所述硅油保护层覆盖于所述金属层上，所述基膜上设有多个“干”形隔离带(11)，所述基膜的一侧的边缘设有条形隔离带(12)，每个所述“干”形隔离(11)带包括一条纵向隔离带和两条相互平行的横向隔离带，所述纵向隔离带的一端贯穿其中一条横向隔离带后与另一条横向隔离带连通，所述纵向隔离带的另一端与所述条形隔离带(12)相连通，所述金属层包括第一铝镀层(2)和锌镀层(3)。

2.根据权利要求1所述的抗衰减电容器薄膜，其特征在于：所述金属层还包括第二铝镀层(4)。

3.根据权利要求2所述的抗衰减电容器薄膜，其特征在于：所述的锌镀层(3)具有下凸形加厚区(3a)，所述的锌镀层(3)凸形加厚区(3a)为10-20mm。

4.根据权利要求1或2所述的抗衰减电容器薄膜，其特征在于：所述的基膜(1)的厚度为3-15μm。

5.根据权利要求3所述的抗衰减电容器薄膜，其特征在于：所述多个“干”形隔离带对称设置在所述基膜(1)的中线两侧。

6.根据权利要求5所述的抗衰减电容器薄膜，其特征在于：所述基膜(1)的宽度为9mm-620mm。

7.根据权利要求5或6所述的抗衰减电容器薄膜，其特征在于：所述的基膜为1-60个，所述的第二铝镀层(4)具有上凸形加厚区(4a)。

8.根据权利要求7所述的抗衰减电容器薄膜，其特征在于：所述下凸形加厚区(3a)位于所述锌镀层(3)的中心。

9.根据权利要求7所述的抗衰减电容器薄膜，其特征在于：所述上凸形加厚区(4a)位于所述第二铝镀层(4)的中心。