[发明专利]掩模板、蒸镀掩模板组件、蒸镀设备及掩模板的制作方法

权利要求书

1.一种掩模板，包括掩模板主体，所述掩模板主体上设有遮挡部和多个开口部；其特征在于，所述掩模板主体包括相背的两个面，其中在所述相背的两个面中至少一个面上的预定区域处设有磁性层。

2.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，

所述掩模板主体包括中部区域和位于所述中部区域外围的边缘区域，其中所述预定区域包括所述掩模板主体的中部区域，且所述磁性层具有与所述中部区域处的开口部对应的开口图案。

3.根据权利要求2所述的掩模板，其特征在于，

所述磁性层在所述中部区域的中心位置处的磁性大于所述磁性层在所述中部区域的边缘位置处的磁性。

4.根据权利要求3所述的掩模板，其特征在于，

所述磁性层的厚度从所述中部区域的中心向所述中部区域的边缘逐渐减小，以使所述磁性层的磁性从所述中部区域的中心向所述中部区域的边缘逐渐减小。

5.根据权利要求4所述的掩模板，其特征在于，

所述磁性层包括依次覆盖于所述掩模板主体上的多层磁性材料薄膜，且所述多层磁性材料薄膜从靠近所述掩模板主体的一侧至远离所述掩模板主体的一侧、每层磁性材料薄膜的覆盖面积逐渐减小。

6.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，

所述遮挡部包括用于限定出异形部分的异形遮挡部和用于限定出矩形部分的矩形遮挡部，所述异形遮挡部与所述矩形遮挡部相连并限定出所述开口部形状，其中所述预定区域包括所述异形遮挡部的至少部分区域，或者，所述预定区域包括所述矩形遮挡部中与所述异形遮挡部相邻的至少部分区域。

7.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，

所述掩模板主体包括多个支撑条和多个遮挡条，所述多个支撑条和所述多个遮挡条纵横交错，以形成所述遮挡部和所述开口部，所述磁性层设置在所述支撑条和/或所述遮挡条上。

8.一种蒸镀掩模板组件，其特征在于，包括：

第一掩模板，所述第一掩模板为如权利要求1至7任一项所述的掩模板；

叠放于所述第一掩模板之上的第二掩模板，所述第二掩模板为精细金属掩模板FMM；

以及，框架，所述第一掩模板和所述第二掩模板的四周边缘焊接在所述框架上。

9.根据权利要求8所述的蒸镀掩模板组件，其特征在于，

所述第一掩模板相背的两个面中面向所述精细金属掩模板FMM的一面上设置所述磁性层。

10.一种蒸镀设备，其特征在于，包括如权利要求8或9所述的蒸镀掩模板组件。

11.一种掩模板的制作方法，其特征在于，所述方法用于制作如权利要求1至7任一项所述的掩模板，所述方法包括：

在所述掩模板主体的相背的两个面中至少一个面上的预定区域处形成磁性层。

12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，所述方法中，在所述掩模板主体的相背的两个面中至少一个面上的预定区域处形成磁性层，具体包括：

形成所述掩模板主体，所述掩模板主体上具有所述遮挡部和所述开口部，且所述掩模板主体包括中部区域和位于所述中部区域外围的边缘区域；

在所述掩模板主体的中部区域沉积磁性材料，以形成所述磁性层。

13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，所述方法中，在所述掩模板主体的中部区域沉积磁性材料时，所述磁性层的厚度从所述中部区域的中心向所述中部区域的边缘逐渐减小。

14.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，所述方法中，在所述掩模板主体的中部区域沉积磁性材料时，具体包括：

依次在所述掩模板主体的中部区域沉积多层磁性材料薄膜，且所述多层磁性材料薄膜从靠近所述掩模板主体的一侧至远离所述掩模板主体的一侧、每层磁性材料薄膜的覆盖面积逐渐减小。

15.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，用于制作如权利要求6所述的掩模板，所述在所述掩模板主体的相背的两个面中至少一个面上的预定区域处形成磁性层具体包括：

形成所述掩模板主体；

在所述掩模板主体的异形遮挡部的至少部分区域沉积磁性材料，或者，在矩形遮挡部中与所述异形遮挡部相邻的至少部分区域上沉积磁性材料，以形成所述磁性层。