[发明专利]掩模板、蒸镀掩模板组件、蒸镀设备及掩模板的制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其是涉及一种掩模板、蒸镀掩模板组件、蒸镀设备及掩模板的制作方法。

背景技术

OLED(Organic Light Emission Display，有机电致发光二极管)显示技术凭借其各方面优点，而逐渐取代LCD(Liquid Crystal Display，液晶显示器)显示，OLED显示技术的发展迎来了黄金时代，各大OLED显示器制造商不断推出各种颠覆性的产品来吸引人们的眼球。

在OLED(Organic Light Emission Display，有机电致发光二极管)制造技术中，真空蒸镀用的掩模板是至关重要的部件，掩模板的质量直接影响着生产制造成本和产品质量。OLED蒸镀过程用的掩模板主要包括精细金属掩模板(Fine Metal Mask，简称：FMM)，精细金属掩模板FMM用于蒸镀发光层材料，在蒸镀基板上形成像素图形；在精细金属掩模板的下方设置辅助支撑掩模板，主要用于支撑精细金属掩模板FMM以及限定蒸镀基板上的显示区域的形状，精细金属掩模板FMM和支撑掩模板张四边焊接在框架上。

在现有技术中，掩模板由于自身重力等原因，会局部区域发生下垂，随着PPI(像素数目)的提高，由于掩模板下垂，FMM与蒸镀基板(BP Glass)之间，会引起的对位偏移或者阴影(shadow)增大的问题，都会极大地引起产品显示混色等不良，而且将影响整个批次的产品良率。

为了减少由于蒸镀引起的混色等不良，现有技术中将蒸镀基板与掩模板直接近距离接触，且设备内利用磁场来提升掩模板和蒸镀基板之间的紧密结合度，但仍然无法避免掩模板由于下垂而引起的shadow过大、混色、均匀性差等不良。

此外，随着异形显示屏的出现，掩模板的异形区域相比于常规区域来看，异形的掩模板由于形状不对称，受力不均匀，会很容易出现在异形区域部分上翘或者部分下垂的现象，进而引起该处的蒸镀混色现象严重，均一性差等问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种掩模板、蒸镀掩模板组件、蒸镀设备及掩模板的制作方法，能够改善蒸镀时由于掩模板不平坦而导致的混色、均一性差等不良，提升产品良率。

本发明所提供的技术方案如下：

一种掩模板，包括掩模板主体，所述掩模板主体上设有遮挡部和多个开口部；所述掩模板主体包括相背的两个面，其中在所述相背的两个面中至少一个面上的预定区域处设有磁性层。

进一步的，所述掩模板主体包括中部区域和位于所述中部区域外围的边缘区域，其中所述预定区域包括所述掩模板主体的中部区域，且所述磁性层具有与所述中部区域处的开口部对应的开口图案。

进一步的，所述磁性层在所述中部区域的中心位置处的磁性大于所述磁性层在所述中部区域的边缘位置处的磁性。

进一步的，所述磁性层的厚度从所述中部区域的中心向所述中部区域的边缘逐渐减小，以使所述磁性层的磁性从所述中部区域的中心向所述中部区域的边缘逐渐减小。

进一步的，所述磁性层包括依次覆盖于所述掩模板主体上的多层磁性材料薄膜，且所述多层磁性材料薄膜从靠近所述掩模板主体的一侧至远离所述掩模板主体的一侧、每层磁性材料薄膜的覆盖面积逐渐减小。

进一步的，所述遮挡部包括用于限定出异形部分的异形遮挡部和用于限定出矩形部分的矩形遮挡部，所述异形遮挡部与所述矩形遮挡部相连并限定出所述开口部形状，其中所述预定区域包括所述异形遮挡部的至少部分区域，或者，所述预定区域包括所述矩形遮挡部中与所述异形遮挡部相邻的至少部分区域。

进一步的，所述掩模板主体包括多个支撑条和多个遮挡条，所述多个支撑条和所述多个遮挡条纵横交错，以形成所述遮挡部和所述开口部，所述磁性层设置在所述支撑条和/或所述遮挡条上。

一种蒸镀掩模板组件，包括：

第一掩模板，所述第一掩模板为如上所述的掩模板；

叠放于所述第一掩模板之上的第二掩模板，所述第二掩模板为精细金属掩模板FMM；

以及，框架，所述第一掩模板和所述第二掩模板的四周边缘焊接在所述框架上。

进一步的，所述第一掩模板相背的两个面中面向所述精细金属掩模板FMM的一面上设置所述磁性层。

一种蒸镀设备，包括如上所述的蒸镀掩模板组件。

一种掩模板的制作方法，所述方法用于制作如上所述的掩模板，所述方法包括：在所述掩模板主体的相背的两个面中至少一个面上的预定区域处形成磁性层。

进一步的，所述方法中，在所述掩模板主体的相背的两个面中至少一个面上的预定区域处形成磁性层，具体包括：