[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：

衬底，所述衬底具有相对设置的第一表面和第二表面；

有源层，所述有源层设置在所述第一表面上；

非晶硅遮光层，所述非晶硅遮光层设置在所述衬底和所述有源层之间或者所述第二表面上；

其中，所述非晶硅遮光层在所述第一表面上的正投影覆盖整个所述第一表面或者所述非晶硅遮光层在所述第一表面上的正投影覆盖所述衬底的非发光区域。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述非晶硅遮光层在所述第一表面上的正投影覆盖所述衬底的非发光区域，且所述阵列基板进一步包括：

第一绝缘层，所述第一绝缘层设置于所述非晶硅遮光层与所述衬底之间；

第二绝缘层，所述第二绝缘层设置所述非晶硅遮光层远离所述衬底的一侧。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述非晶硅遮光层设置在所述第一表面上，所述有源层设置在所述非晶硅遮光层远离所述衬底的一侧，且所述非晶硅遮光层在所述第一表面上的正投影覆盖整个所述第一表面。

4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述非晶硅遮光层设置于所述第二表面上，所述有源层设置在所述第一表面上，所述非晶硅遮光层在所述第一表面上的正投影覆盖整个所述第一表面。

5.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述第一绝缘层设置于第一表面上，

所述非晶硅遮光层设置于所述第一绝缘层远离所述衬底的一侧，

所述第二绝缘层设置所述非晶硅遮光层远离所述衬底的一侧，

所述有源层设置所述第二绝缘层远离所述衬底的一侧，

且所述非晶硅遮光层在所述第一表面上的正投影覆盖所述衬底的非发光区域。

6.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述第一绝缘层设置于第二表面上，

所述非晶硅遮光层设置于所述第一绝缘层远离所述衬底的一侧，

所述第二绝缘层设置所述非晶硅遮光层远离所述衬底的一侧，

所述有源层设置所述第一表面上，

且所述非晶硅遮光层在所述第一表面上的正投影覆盖所述衬底的非发光区域。

7.根据权利要求4或6所述的阵列基板，其特征在于，进一步包括缓冲层，所述缓冲层设置于所述第一表面与所述有源层之间。

8.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，形成所述有源层的材料包括非结晶氧化铟镓锌，氮氧化锌，铟锌锡氧化物，非晶硅，多晶硅，六噻吩，聚噻吩中的任一种。

9.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1-8任一项所述的阵列基板。

10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，当所述显示面板为OLED顶发射显示面板时，所述非晶硅遮光层在所述第一表面上的正投影覆盖整个所述第一表面。

11.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，当所述显示面板为OLED底发射显示面板或者LCD显示面板时，所述非晶硅遮光层在所述第一表面上的正投影覆盖所述衬底的非发光区域。

12.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求9-11任一项所述的显示面板。

13.一种制备阵列基板的方法，其特征在于，所述方法包括：

提供衬底，所述衬底具有相对设置的第一表面和第二表面；

形成有源层，所述有源层设置在所述第一表面上；

形成非晶硅遮光层，所述非晶硅遮光层设置在所述衬底和所述有源层之间或者所述第二表面上；

其中，所述非晶硅遮光层在所述第一表面上的正投影覆盖整个所述第一表面或者所述非晶硅遮光层在所述第一表面上的正投影覆盖所述衬底的非发光区域。