[发明专利]光掩模、其制造方法以及显示装置的制造方法

权利要求书

1.一种接近曝光用的光掩模，其在透明基板上具有用于转印到被转印体上的转印用图案，其特征在于，

所述转印用图案包含：

规则性排列的多个主图案；

辅助图案，其与所述主图案隔开地配置于所述主图案分别具有的角部的附近；以及

缝隙部，其包围所述主图案和所述辅助图案，

所述主图案在所述透明基板上形成有第1透光控制膜，

所述辅助图案在所述透明基板上形成有第2透光控制膜，并且具有无法通过曝光而析像到所述被转印体上的尺寸，

所述缝隙部是所述透明基板露出而成的，并且具有：

带状的第1缝隙部，其具有宽度S1，在一个方向上延伸；以及

第2缝隙部，其具有宽度S2，与所述第1缝隙部交叉，

在所述第1缝隙部与所述第2缝隙部交叉的区域中，4个所述主图案的所具有的4个角部相对，设用直线将所述4个角部的顶点连结起来而形成的四边形为交叉区域时，以使得所述辅助图案的重心位于所述交叉区域内的方式配置有所述辅助图案，

所述第1透光控制膜由遮光膜构成，

所述第2透光控制膜由使曝光光的一部分透过的半透光膜构成。

2.根据权利要求1所述的光掩模，其中，

所述转印用图案包含规则性地反复排列有单位图案的反复图案。

3.根据权利要求1或2所述的光掩模，其中，

所述辅助图案具有点形状或者线形状，对于每一个所述主图案配置有多个所述辅助图案。

4.根据权利要求1或2所述的光掩模，其中，

所述主图案具有被相互平行的一对直线夹着的带状的区域。

5.根据权利要求1或2所述的光掩模，其中，

以所述辅助图案被包含于所述交叉区域内的方式配置有所述辅助图案。

6.根据权利要求1或2所述的光掩模，其中，

所述第1透光控制膜和所述第2透光控制膜包含对彼此的蚀刻剂具有耐受性的材料。

7.根据权利要求1或2所述的光掩模，其中，

所述第2透光控制膜对于所述光掩模的曝光中使用的曝光光的代表波长光具有透射率T2，0％≤T2≤60％。

8.根据权利要求1或2所述的光掩模，其中，

所述第1透光控制膜是在所述第2透光控制膜上层叠了第3透光控制膜而成的。

9.一种接近曝光用光掩模的制造方法，该接近曝光用光掩模在透明基板上具有用于转印到被转印体上的转印用图案，其中，

所述转印用图案包含：

规则性排列的多个主图案；

辅助图案，其与所述主图案隔开地配置在各个所述主图案的附近，具有无法通过曝光而析像到所述被转印体上的尺寸；以及

缝隙部，其包围所述主图案和所述辅助图案，其中，

在该接近曝光用光掩模的制造方法中包含以下工序：

准备在所述透明基板上形成有第2透光控制膜、第3透光控制膜和抗蚀剂膜的光掩模坯体；

对所述抗蚀剂膜进行描绘和显影，形成具有多种残留膜厚度的抗蚀剂图案；

将所述抗蚀剂图案作为掩模，对所述第3透光控制膜和第2透光控制膜依次进行蚀刻；

对所述抗蚀剂图案进行减膜以减少规定的厚度；以及

将减膜后的抗蚀剂图案作为掩模，对新露出的所述第3透光控制膜进行蚀刻。