[发明专利]光掩模、其制造方法以及显示装置的制造方法

说明书

提供光掩模、其制造方法以及显示装置的制造方法。抑制在对光掩模的转印用图案进行了细微化、高密度化时容易产生的转印像的角部的变圆。本发明的接近曝光用的光掩模在透明基板上具有用于转印到被转印体上的转印用图案。转印用图案包含：主图案；辅助图案，其与主图案隔开地配置在主图案具有的角部的附近。主图案在透明基板上形成有第1透光控制膜，辅助图案在透明基板上形成有第2透光控制膜，并且具有无法通过曝光而析像到被转印体上的尺寸。

技术领域

本发明涉及用于制造电子设备、特别优选用于平板显示器(FPD)的制造的光掩模、接近曝光用光掩模的制造方法以及显示装置的制造方法。

背景技术

专利文献1中记载了在通过使用了光掩模的接近曝光对构成液晶显示装置(以下，也称作“LCD”。)的滤色器的图案进行曝光时，使与光掩模的遮光部的角部对应的图案角部不变圆的光掩模。即，专利文献1中记载了在使用负型光致抗蚀剂并通过接近曝光形成构成滤色器的图案时使用的光掩模中，以使其顶点与所述光掩模的遮光部的角部相接的方式设置多边形的校正遮光图案。

专利文献1：日本特开2008-76724号公报

发明内容

近年来，在包含液晶显示装置或有机EL显示器的显示器领域中，以便携终端为代表的显示设备的高精细化快速发展。此外，为了提高显示器的画质或显示性能，LCD的像素数或者像素密度的增加倾向显著。

图1是示出现有的滤色器(以下，也称作“CF”。)的图案的一例的示意图。在这里所示的图案中，在1个像素1中排列有彼此形成相同形状的3个子像素2。3个子像素2分别对应于R(红)、G(绿)、B(蓝)的滤色器。子像素2以固定的间距规则地排列。各子像素2形成为长方形。此外，各子像素2由多个较细的黑矩阵(以下，也称作“BM”。)3划分。多个黑矩阵3相互交叉地形成为格子状。此外，具有上述3个颜色的子像素2的1个像素1按照固定的间距规则地排列，由此形成了反复图案。

具有用于制造这样的CF的转印用图案的光掩模为了根据市场的要求而对CF的设计进行细微化，需要对图案进行细微化。但是，如果仅是单纯地缩小光掩模具备的转印用图案的尺寸，则会产生以下的不良情况。

在CF的制造中，常常采用利用接近曝光方式的曝光装置将光掩模具有的转印用图案曝光为负型类型的感光材料的方法。

这里，图2的(a)例示用于制造图1所示的已有的CF中使用的BM3的光掩模图案4。而且，图2的(b)示出为了制造更高精细的BM3而对上述的图案4进行了细微化而成的图案5。这样的图案的细微化例如在使300ppi(pixel-per-inch)左右的CF转换为超过400ppi的更细微的规格的状况下变得必要。

在使用具有图2的(b)的图案5的光掩模对BM图案进行转印来制造CF的情况下，理想的是能够获得图3的(a)所示的CF的图案6。但是，实质上对这样的图案进行转印产生困难的情况不少。即，如果现实中利用被转印的BM来制造CF，则产生如下的问题：如图3的(b)的图案7那样，各个子像素的角部变圆等发生图案形状变化的倾向变得显著，并且BM的宽度无法充分细微化。这是因为，在接近曝光时，通过在光掩模与被转印体之间的间隙(即接近间隔)中产生的衍射光形成复杂的光强度分布，在被转印体上形成的转印像未成为忠实地再现了掩模图案的转印像。

在该情况下，应特别留意的内容是确认了如下的倾向：由于子像素(这里为长方形)的角部变圆等发生形状劣化(参照图3的(b)的A部)，BM的宽度也无法充分细微化(参照图3的(a)的B部和图3的(b)的C部)，因此子像素的开口面积变小，CF的开口率减小。其结果，该倾向引起使LCD等的画面的明亮度下降、或者使功耗增大的不良情况。