[发明专利]基于软聚合物的材料的抛光介质在审

专利信息
申请号: 201711116404.7 申请日: 2017-11-13
公开(公告)号: CN108068010A 公开(公告)日: 2018-05-25
发明(设计)人: S·达斯凯维奇 申请(专利权)人: JH罗得股份有限公司
主分类号: B24B37/24 分类号: B24B37/24;B24B37/26
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 徐鑫;项丹
地址: 美国亚*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 软聚合物 抛光介质 聚合物材料 设备和系统 拉伸模量 附着 申请
【权利要求书】:

1.一种抛光介质,其包括:

基于软聚合物的材料,所述基于软聚合物的材料的拉伸模量约为50kPa至约1.0MPa,以及

聚合物材料,所述聚合物材料至少部分分散在所述基于软聚合物的材料中,或者与所述基于软聚合物的材料附着。

2.如权利要求1所述的抛光介质,其特征在于,所述抛光介质包含约5-20重量%的聚合物材料。

3.如权利要求1所述的抛光介质,其特征在于,所述聚合物材料对工件进行抛光。

4.如权利要求1所述的抛光介质,其特征在于,所述聚合物材料包括以下一种或多种:聚脲、聚氨酯和聚氨酯/聚脲混合材料。

5.如权利要求4所述的抛光介质,其特征在于,所述聚合物材料经过发泡。

6.如权利要求1-5中任一项所述的抛光介质,其特征在于,所述聚合物材料包括片状和颗粒状的抛光垫材料中的一种或多种。

7.如权利要求1-5中任一项所述的抛光介质,其特征在于,所述基于软聚合物的材料和所述聚合物材料中的一种或多种包括填料和研磨剂中的一种或多种。

8.如权利要求1-5中任一项所述的抛光介质,其特征在于,所述聚合物材料包括一种或多种填料和研磨剂,其选自下组:碳酸钙、硫酸钡、氧化铈、氧化硅、氧化铝、氧化锆、铁氧化物、二氧化锰、高岭土粘土、蒙脱石粘土、氧化钛、碳化硅、碳化硼、钻石、聚氨酯泡沫、环氧化物、聚苯乙烯、聚丙烯酸类、聚酰亚胺以及其他热塑性或热固性材料。

9.如权利要求1-5中任一项所述的抛光介质,其特征在于,所述聚合物材料的密度约为0.3-2.0g/cm3

10.如权利要求1-5中任一项所述的抛光介质,其特征在于,所述聚合物材料包括刷毛、立方体或者其他片状物中的一种或多种,从而对工件进行抛光。

11.如权利要求1-5中任一项所述的抛光介质,其特征在于,所述基于软聚合物的材料包括以下一种或多种:塑料树脂、水凝胶、有机凝胶和硅酮凝胶。

12.一种抛光介质,其包括:

基于软聚合物的材料,以及

聚合物材料,所述聚合物材料至少部分嵌入所述基于软聚合物的材料或者与所述基于软聚合物的材料附着,

其中,所述基于软聚合物的材料的肖氏OO硬度约为10-50。

13.如权利要求12所述的抛光介质,其特征在于,所述聚合物材料包括以下一种或多种:圆柱形纤维、微球体和微球。

14.如权利要求12和13中任一项所述的抛光介质,其特征在于,所述聚合物材料的密度约为0.3-2.0g/cm3

15.如权利要求12和13中任一项所述的抛光介质,其特征在于,所述基于软聚合物的材料和所述聚合物材料中的一种或多种包括填料和研磨剂中的一种或多种。

16.如权利要求12和13中任一项所述的抛光介质,其特征在于,所述抛光介质的表面包括凹槽。

17.如权利要求12和13中任一项所述的抛光介质,其特征在于,所述聚合物材料包括刷毛、立方体或者其他片状物中的一种或多种,从而对工件进行抛光。

18.如权利要求12和13中任一项所述的抛光介质,其特征在于,所述聚合物材料包括以下一种或多种:聚脲、聚氨酯和聚氨酯/聚脲混合材料。

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