[发明专利]等离子蚀刻装置及其放电腔体

权利要求书

1.用于等离子蚀刻装置的放电腔体，其特征在于：

包括外壳体、顶座、固定座、底座以及至少一个气体管口，所述顶座位于所述固定座的上方，所述固定座位于所述外壳体的上方，所述气体管口位于所述外壳体表面的一侧，所述底座位于所述外壳体的下方；

所述放电腔体具有空腔，所述空腔内设置有电源电极，所述顶座的中部具有定位口，所述电源电极相对于所述底座垂直设置并穿过所述定位口向外延伸，且所述电源电极的正极通过连接电缆与射频电源电连接；

所述定位口具有导通孔和定位孔，所述导通孔与所述定位孔同轴设置，且所述导通孔的直径大于所述定位孔的直径。

2.根据权利要求1所述的用于等离子蚀刻装置的放电腔体，其特征在于：

所述固定座包括第一固定座、第二固定座以及第三固定座，所述第一固定座、所述第二固定座以及所述第三固定座同轴设置；

所述第一固定座与所述第二固定座螺纹连接，所述第二固定座与所述第三固定座螺纹连接。

3.根据权利要求2所述的用于等离子蚀刻装置的放电腔体，其特征在于：

所述第一固定座的直径小于所述第二固定座的直径，所述第二固定座的直径小于所述第三固定座的直径。

4.根据权利要求2所述的用于等离子蚀刻装置的放电腔体，其特征在于：

所述第三固定座包括第一固定部件和第二固定部件，所述第一固定部件与所述第二固定部件螺纹连接，且所述第一固定部件的直径与所述第二固定部件的直径相同。

5.根据权利要求1或2所述的用于等离子蚀刻装置的放电腔体，其特征在于：

所述气体管口包括连接部和固定部，所述连接部和所述固定部固定连接，所述固定部上具有至少一个进气孔，所述进气孔设置于所述固定部的中部。

6.等离子蚀刻装置，包括外框、多个电极板以及多个电路板、所述外框所围成的真空腔体，多个所述电极板设置于所述真空腔体内，一个所述电路板位于两个所述电极板之间，其特征在于：

所述等离子蚀刻装置还包括放电腔体，所述放电腔体位于所述外框上表面的一侧；

所述放电腔体包括外壳体、顶座、固定座、底座以及至少一个气体管口，所述顶座位于所述固定座的上方，所述固定座位于所述外壳体的上方，所述气体管口位于所述外壳体表面的一侧，所述底座位于所述外壳体的下方；

所述放电腔体具有空腔，所述空腔内设置有电源电极，所述顶座的中部具有定位口，所述电源电极相对于所述底座垂直设置并穿过所述定位口向外延伸，且所述电源电极的正极通过连接电缆与射频电源电连接；

所述定位口具有导通孔和定位孔，所述导通孔与所述定位孔同轴设置，且所述导通孔的直径大于所述定位孔的直径；

所述底座与所述外框的上表面螺纹连接，且所述底座与所述外框的上表面之间设置有密封圈。

7.根据权利要求6所述的等离子蚀刻装置，其特征在于：

所述固定座包括第一固定座、第二固定座以及第三固定座，所述第一固定座、所述第二固定座以及所述第三固定座同轴设置；

所述第一固定座与所述第二固定座螺纹连接，所述第二固定座与所述第三固定座螺纹连接。

8.根据权利要求7所述的等离子蚀刻装置，其特征在于：

所述第一固定座的直径小于所述第二固定座的直径，所述第二固定座的直径小于所述第三固定座的直径。

9.根据权利要求7所述的等离子蚀刻装置，其特征在于：

所述第三固定座包括第一固定部件和第二固定部件，所述第一固定部件与所述第二固定部件螺纹连接，且所述第一固定部件的直径与所述第二固定部件的直径相同。

10.根据权利要求6或7所述的等离子蚀刻装置，其特征在于：

所述气体管口包括连接部和固定部，所述连接部和所述固定部固定连接，所述固定部上具有至少一个进气孔，所述进气孔设置于所述固定部的中部。