[发明专利]等离子蚀刻装置及其放电腔体

说明书

本发明提供一种等离子蚀刻装置及其放电腔体，该放电腔体包括外壳体、顶座、固定座、底座以及气体管口，顶座位于固定座的上方，固定座位于外壳体的上方，气体管口位于外壳体表面的一侧，底座位于外壳体的下方，放电腔体具有空腔，空腔内设置有电源电极，顶座的中部具有定位口，电源电极相对于底座垂直设置并穿过定位口向外延伸，且电源电极的正极通过连接电缆与射频电源电连接。该等离子蚀刻装置的外框的上表面设置有放电腔体，工艺气体先进入放电腔体进行预先电离产生等离子态，然后进入到等离子蚀刻装置进行二次电离，从而产生均匀的等离子体，缩短了工艺气体被电离的时间，提高了处理效率。

技术领域

本发明涉及等离子蚀刻技术领域，尤其是涉及一种等离子蚀刻装置及其放电腔体。

背景技术

等离子刻蚀是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。采用该原理工作的等离处理设备是用等离子体中的自由基去轰击或溅射被刻蚀材料的表面分子，形成易挥发物质，从而实现刻蚀的目的。

目前，等离子处理设备广泛应用于等离子清洗、刻蚀、等离子镀、等离子涂覆、等离子灰化和表面活化、改性等场合。通过其处理，能够改善材料的润湿能力，使多种材料能够进行涂覆、镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除有机污染物、油污或油脂。

然而，传统的电路板等离子蚀刻设备是在一个真空腔体内，腔体内有若干个平行的电极，在电极之间有被处理的电路板，等离子通过平行电极板产生等离子体，对电路板孔内钻污和有机污染材料进行刻蚀反应。

发明内容

为了解决上述问题，本发明的主要目的是提供一种可以缩短电离气体的时间且能够提高等离子处理的效率的用于等离子蚀刻装置的放电腔体。

本发明的另一目的是提供一种可以缩短电离气体的时间且能够提高等离子处理的效率的等离子蚀刻装置。

为实现上述的主要目的，本发明提供的一种用于等离子蚀刻装置的放电腔体，包括外壳体、顶座、固定座、底座以及至少一个气体管口，顶座位于固定座的上方，固定座位于外壳体的上方，气体管口位于外壳体表面的一侧，底座位于外壳体的下方；放电腔体具有空腔，空腔内设置有电源电极，顶座的中部具有定位口，电源电极相对于底座垂直设置并穿过定位口向外延伸，且电源电极的正极通过连接电缆与射频电源电连接；定位口具有导通孔和定位孔，导通孔与定位孔同轴设置，且导通孔的直径大于定位孔的直径。

可见，在放电腔体的外壳体上设置至少一个气体管口，工艺气体通过气体管口进入放电腔体的空腔，在放电腔体内腔的中部设置有一个与外界射频电源电连接的电源电极，当射频电源为电源电极提供电能即电源电极通电后，放电腔体内均匀分布的工艺气体就会被充分电离从而产生等离子态。

此外，放电腔体可安装在等离子蚀刻装置的外表面上，通过在等离子蚀刻装置的基础上额外增加了一个放电腔体，工艺气体进入放电腔体内部完全电离以后，再进入到等离子蚀刻装置内部进行二次电离，从而产生均匀的等离子体，因此，缩短了工艺气体被电离的时间，提高了等离子处理的效率。

进一步的方案是，固定座包括第一固定座、第二固定座以及第三固定座，第一固定座、第二固定座以及第三固定座同轴设置；第一固定座与第二固定座螺纹连接，第二固定座与第三固定座螺纹连接。

进一步的方案是，第一固定座的直径小于第二固定座的直径，第二固定座的直径小于第三固定座的直径。

进一步的方案是，第三固定座包括第一固定部件和第二固定部件，第一固定部件与第二固定部件螺纹连接，且第一固定部件的直径与第二固定部件的直径相同。

可见，通过在放电腔体的顶座和外壳体之间设置有直径大小不一致的三个固定座，增加了放电腔体的稳定性，为电离气体的发生条件提供了稳定的环境。