[发明专利]一种透明导电膜及其制备方法

权利要求书

1.一种透明导电膜，其特征在于，所述透明导电膜依次由基材层、掺锡氧化铟层和纳米银线层组成，所述基材层的材料选用PEN-PET-PEN三层共挤基材，厚度为75-80μm；ITO层的厚度为10-15nm；纳米银线层的厚度为100-120nm，纳米银线的长度为5-100μm，直径≤20nm，长径比为500-800:1；所述纳米银线层先配置成纳米银线涂布液，所述纳米银线涂布液包括：40-42％的丙烯酸树脂或聚氨酯树脂、5-6％的纳米银线、25-30％辅助剂、22-30％的丙醇，所述百分比为重量百分比。

2.根据权利要求1所述的透明导电膜，其特征在于，所述掺锡氧化铟层沉积在基材层的上表面，所述纳米银线层涂布在掺锡氧化铟层的上表面。

3.一种制备权利要求1所述的透明导电膜的方法，其特征在于，所述制备方法包括下述步骤：

(1)制备基材层；

(2)在基材层的上表面采用真空磁控溅射的方法镀ITO层；

(3)配制分散均匀的纳米银线涂布液；

(4)在ITO层的上表面涂布纳米银线涂布液；

(5)进行烘干和干燥，得到透明导电膜。