[发明专利]光学防伪元件及光学防伪产品

权利要求书

1.一种光学防伪元件，其特征在于，所述光学防伪元件包括：

基材，该基材包括彼此相对的第一表面和第二表面；

形成在所述第一表面或所述第二表面且位于所述基材的第一区域的采样合成层，该采样合成层由一个或多个微采样单元构成；以及

形成在所述第一表面或所述第二表面且位于所述基材的第二区域的微图像层，所述微图像层是非周期且无对称轴的；

所述采样合成层采用柱面微透镜或柱面微反射镜；

其中，当使得所述第一区域和所述第二区域相互靠近时，所述采样合成层能够对所述微图像层进行采样合成，从而形成由一个或多个宏观合成图像构成的视觉特征。

2.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述微采样单元的焦距为所述基材的厚度的整数倍。

3.根据权利要求2所述的光学防伪元件，其特征在于，所述微采样单元的焦距和所述基材的厚度的整数倍之间的差小于3微米。

4.根据权利要求3所述的光学防伪元件，其特征在于，所述微采样单元的焦距和所述基材的厚度的整数倍之间的差小于1微米。

5.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述光学防伪元件还包括：

光学辅助层，用于辅助使得所述采样合成层能够对所述微图像层进行采样合成，

所述微采样单元的焦距为所述基材的厚度的整数倍与光学辅助层的厚度之和。

6.根据权利要求5所述的光学防伪元件，其特征在于，

所述微采样单元的焦距和所述基材的厚度的整数倍与光学辅助层的厚度之和之间的差小于3微米。

7.根据权利要求6所述的光学防伪元件，其特征在于，

所述微采样单元的焦距和所述基材的厚度的整数倍与光学辅助层的厚度之和之间的差小于1微米。

8.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述微采样单元的焦距范围是10微米至2毫米。

9.根据权利要求8所述的光学防伪元件，其特征在于，

所述微采样单元的焦距范围是15微米至200微米。

10.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述采样合成层的加工深度小于30微米。

11.根据权利要求10所述的光学防伪元件，其特征在于，所述加工深度的范围为0.5微米至20微米。

12.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述光学防伪元件还包括：

形成在所述采样合成层的表面上的反射层，用于将由所述采样合成而形成的所述一个或多个宏观合成图像反射至人眼中。

13.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述采样合成层为微透镜阵列层。

14.根据权利要求13所述的光学防伪元件，其特征在于，所述微透镜阵列层中的微透镜阵列为由多个微透镜单元构成的非周期性阵列、随机性阵列、周期性阵列或局部周期性阵列中的任意一者或其组合。

15.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，

所述微图像层包括一个或多个选择性光吸收微结构，所述选择性光吸收微结构用于吸收特定光谱的颜色和效率；以及

所述光学防伪元件还包括形成在所述一个或多个选择性光吸收微结构的表面之上的反射层。

16.根据权利要求15所述的光学防伪元件，其特征在于，所述选择性光吸收微结构包括一个或多个下凹的微观结构。