[发明专利]光学防伪元件及光学防伪产品

说明书

本发明涉及光学防伪领域，公开了一种光学防伪元件及光学防伪产品，其中所述光学防伪元件包括：基材，该基材包括彼此相对的第一表面和第二表面；形成在所述第一表面或所述第二表面且位于所述基材的第一区域的采样合成层，该采样合成层由一个或多个微采样单元构成；以及形成在所述第一表面或所述第二表面且位于所述基材的第二区域的微图像层；其中，当使得所述第一区域和所述第二区域相互靠近时，所述采样合成层能够对所述微图像层进行采样合成，从而形成由一个或多个宏观合成图像构成的视觉特征。所述光学防伪元件具有易识别难伪造的特点。

技术领域

本发明涉及光学防伪领域，具体地，涉及一种光学防伪元件及光学防伪产品。

背景技术

为了防止利用扫描和复印等手段产生的伪造，钞票、证卡和产品包装等各类高安全或高附加值印刷品中广泛采用了光学防伪技术，并且取得了非常好的效果。

公开号为CN1271106A和授权公告号CN1552589B的中国专利，或者Kamal H,Voelkel R,Alda J的Properties ofmagnifiers[J].Optical Engineering,1998,37(11):3007-3014，董小春,杜春雷的微透镜阵列显示技术研究[J].微纳电子技术,2003,40(6):29-32.等文献均公开了在基材的两个表面上分别带有微透镜阵列和微图文阵列的微光学元件，并且其中，微图文阵列位于微透镜阵列的焦平面附近，通过微透镜阵列对微图文阵列的莫尔放大作用来再现呈现动态效果的或具有一定景深的图案。

如上所述，现有技术中均采用在基材两侧分别加工微透镜阵列和微图文阵列，并按照预先设定好的微透镜阵列和微图文阵列之间的相对位置关系或旋转角度关系，以及二者各自的阵列形式，特别是微图文阵列的形式来形成特定的光学防伪特征。

然而，上述方式具有两个方面的问题：其一，所形成的光学防伪特征是单一的、固定不变的；其二，所谓的设定好的相对位置关系或旋转角度关系，在实际加工过程中通常是无法达到严格统一的参数或在加过程中可能会产生误差的，因此实际获得的光学防伪特征又存在着不确定性。这些问题使得光学防伪元件的特征单一或质量无法保证。

由于包装品、印刷品、有价证券等产品对防伪技术不断提高的要求，以上问题亟待解决。

发明内容

本发明的目的是提供一种光学防伪元件以及光学防伪产品，以解决或至少部分解决上述技术缺陷。

为了实现上述目的，本发明一方面提供一种所述光学防伪元件包括：基材，该基材包括彼此相对的第一表面和第二表面；形成在所述第一表面或所述第二表面且位于所述基材的第一区域的采样合成层，该采样合成层由一个或多个微采样单元构成；以及形成在所述第一表面或所述第二表面且位于所述基材的第二区域的微图像层；其中，当使得所述第一区域和所述第二区域相互靠近时，所述采样合成层能够对所述微图像层进行采样合成，从而形成由一个或多个宏观合成图像构成的视觉特征。

本发明第二方面提供一种光学防伪产品，包括上述的光学防伪元件。

根据本发明的光学防伪元件和光学防伪产品具有以下优点：

(1)所述第一区域的采样合成层与第二区域的微图像层相互靠近的过程为彼此之间提供了相互平移自由度和相互旋转自由度，所以能够提供更加丰富而多变的光学防伪特征，并且提供给用户控制光学防伪特征的自由度；

(2)能够实现丰富的光学防伪特征，从而产生更强的公众吸引力和更高的抗伪造能力；

(3)可利用本领域通用设备进行批量生产。

本发明的其它特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。

附图说明

附图是用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本发明，但并不构成对本发明的限制。在附图中：