[发明专利]溴化钾晶片的抛光方法在审
| 申请号： | 201711180469.8 | 申请日： | 2017-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN107916455A | 公开（公告）日： | 2018-04-17 |
| 发明（设计）人： | 黄璠 | 申请（专利权）人： | 铜陵市一棵松农业科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B33/10 | 分类号： | C30B33/10 |
| 代理公司： | 铜陵市天成专利事务所34105 | 代理人： | 范智强 |
| 地址： | 244000 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 溴化钾 晶片 抛光 方法 | ||
【权利要求书】：
1.溴化钾晶片的抛光方法，其特征是它包括以下步骤：（1）、将溴化钾晶片置于密闭锥形容器内，将密闭锥形容器抽真空；（2）、将绝对酒精加热至50-60℃后放入密闭容器内，对密闭容器内充入干燥氮气，使其充满密闭容器；（3）、将密闭锥形容器放入离心机内进行离心10-20min，离心机转速为200-250r/min；（4）、打开密闭锥形容器，用滴管向密闭锥形容器内的溴化钾晶片表面滴加乙醚，再次封闭密闭锥形容器并放入离心机内进行离心6-10min，离心机转速为300-350r/min；（5）、取出密闭锥形容器内的溴化钾晶片，用干净绒布擦干溴化钾晶片表面。
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