[发明专利]一种模拟内部版图图形的边缘冗余图形生成方法

权利要求书

1.一种模拟内部版图图形的边缘冗余图形生成方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤S1：提供一原始版图，所述原始版图包括关键版图和填充区域，采用尺寸分析模块对所述原始版图进行分析，获取所述原始版图和所述关键版图的特征尺寸；

步骤S2：采用数组抽取模块获取所述关键版图的特征图形，并根据所述特征图形的种类将所述关键版图转换为二维坐标系数组；

步骤S2包括以下步骤：

步骤S21：根据关键版图的特征尺寸建立第一二维坐标系，原点为关键版图的左下角端点，横轴方向水平向右，纵轴方向垂直向上；

步骤S22：根据每个特征图形在关键版图中的位置和第一二维坐标系，获取每个特征图形的定位数据；

步骤S23：将类型相同的特征图形的定位数组进行组合，得到定位数组，将所有的定位数组进行组合，得到二维坐标系数组；

具体地，于步骤S22中，采用以下步骤获取定位数据：

步骤A1：将每个特征图形整合为方形结构，获取每个方形结构在第一二维坐标系中的定位点；

步骤A2：将定位点的坐标值依次排列，并重复最后一个定位点的坐标值，得到定位数据；

步骤S3：采用修改模块对所述特征图形进行筛选，获取所述特征图形中必要特征图形，并对所述二维坐标系数组进行修改，保留所述必要特征图形的对应的数据，剔除剩余数据；

步骤S4：采用数组还原模块将所述二维坐标系数组转换为冗余图形；

步骤S5：采用图形比对模块对所述冗余图形和预定指标进行比对；

若符合所述预定指标，则进入步骤S7；

若不符合所述预定指标，则进入步骤S6；

步骤S6：采用修正模块获取所述冗余图形不符合所述预定指标的项目，根据所述项目对所述二维坐标系数组进行修正，返回步骤S4；

步骤S7：采用填充模块在所述填充区域内填充所述冗余图形；

当所述预定指标包括尺寸范围和距离范围时，所述步骤S5中还包括以下步骤：

将所述冗余图形的尺寸与所述尺寸范围进行比较，将所述冗余图形之间的距离与所述距离范围进行比较；

若所述冗余图形不满足所述尺寸范围和/或所述距离范围，则不符合所述预定指标；

若所述冗余图形同时满足所述尺寸范围和所述距离范围，则符合所述预定指标；

所述步骤S6中还包括以下步骤：

对于不符合所述尺寸范围和所述距离范围的所述冗余图形，调整所述冗余图形在所述二维坐标系数组中的定位数据，使得所述冗余图形满足所述尺寸范围和所述距离范围；或

当所述预定指标包括数量范围时，所述步骤S5中还包括以下步骤：

将所述冗余图形的数量与所述数量范围进行比较；

若所述冗余图形的数量大于所述数量范围，则不符合所述预定指标；

若所述冗余图形的数量不大于所述数量范围，则符合所述预定指标；

所述步骤S6中还包括以下步骤：

对于不符合所述数量范围的冗余图形，删除部分所述冗余图形在所述二维坐标系数组中的定位数据至所述冗余图形的数量调整为所述数量范围的最大值。

2.根据权利要求1所述的边缘冗余图形生成方法，其特征在于，所述步骤S4包括以下步骤：

步骤S41：将所述二维坐标系数组进行拆分，获取每个所述特征图形的定位数据；

步骤S42：根据所述关键版图的特征尺寸建立第二二维坐标系；

步骤S43：将每个所述定位数据中的定位点在所述第二二维坐标系依次连接，并根据所述特征图形的类型进行颜色填充，得到所述冗余图形。

3.根据权利要求1所述的边缘冗余图形生成方法，其特征在于，所述步骤S7包括以下步骤：

步骤S71：根据所述原始版图的特征尺寸，建立第三二维坐标系，原点为原始版图的左下角端点，横轴方向水平向右，纵轴方向垂直向上，并在所述第三二维坐标系中画出所述填充区域；

步骤S72：将所述填充区域从所述原点开始，从下往上分为多层，每一层的高度与所述冗余图形的高度相同；

步骤S73：根据所述冗余图形的所述二维坐标系数组，在每一层的所述填充区域中，将所述冗余图形按照从左往右顺序进行填充。

4.根据权利要求1所述的边缘冗余图形生成方法，其特征在于，所述步骤S3中的所述必要特征图形包括有源区图形和多晶硅图形。