[发明专利]曝光装置以及物品的制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，具有将掩模的图案投影到基板的投影光学系统，其特征在于，

所述投影光学系统具有：

第一光学元件，能够为了调整所述投影光学系统的像散而变更位置或者形状；以及

第二光学元件，配置于所述投影光学系统的光瞳面或者光瞳面的附近，

所述曝光装置具有：

控制部，控制所述第一光学元件的位置或者形状；以及

供给部，为了调整所述第二光学元件的温度分布而对所述第二光学元件供给气体，

所述供给部对所述第二光学元件供给气体，以使由于所述第二光学元件的温度分布而产生的第一方向的像散和与所述第一方向不同的第二方向的像散的增减的方向相互相反，使所述第一方向的像散收敛于容许范围内，

所述控制部控制所述第一光学元件的位置或者形状，以使所述第二方向的像散收敛于容许范围内。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述投影光学系统具有保持所述第二光学元件的保持部，

所述供给部从设置于所述保持部的多个供气口的各个供气口，沿着相互相同的方向使气体流过所述第二光学元件的表面。

3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，

在所述保持部中，所述多个供气口的各个供气口在相同的方向上延伸。

4.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，

在所述保持部中，在相对于所述第二光学元件的光轴而与所述供气口相反的一侧设置有多个排气口，

所述多个供气口以及所述多个排气口在相同的方向上延伸。

5.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

通过利用所述控制部控制所述第一光学元件的位置或者形状，能够进行所述投影光学系统的相互垂直的方向的投影倍率的调整，且能够进行所述第二方向的像散的调整。

6.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述曝光装置具有测量部，该测量部测量所述投影光学系统的所述第二方向的像散，

根据由所述测量部测量得到的测量结果，控制所述第一光学元件的位置或者形状，以使所述第二方向的像散收敛于容许范围内。

7.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制部根据基于所述投影光学系统的所述基板的曝光历史，计算为了使所述第二方向的像散收敛于容许范围内而所需的所述第一光学元件的驱动量，根据计算出的驱动量来控制所述第一光学元件的驱动。

8.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述第二方向是与所述第一方向相差45度的方向。

9.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述投影光学系统具有凹面镜、凸面镜以及透镜，该透镜配置于所述凹面镜与所述凸面镜之间，被保持成在与所述凸面镜之间形成空间，

所述第二光学元件是凸面镜或者透镜。

10.根据权利要求9所述的曝光装置，其特征在于，

所述供给部对所述凸面镜与所述透镜之间的空间供给气体。