[发明专利]曝光装置以及物品的制造方法

说明书

即使在曝光的光的照度高的情况下，也将投影光学系统中的方向相互不同的多个像散收敛于容许范围内。曝光装置具有将掩模的图案投影到基板的投影光学系统，具有：第一光学元件，能够为了调整投影光学系统的像散变更位置或形状；第二光学元件，配置于投影光学系统的光瞳面或光瞳面的附近；控制部，控制第一光学元件的位置或形状；供给部，为了调整第二光学元件温度分布对第二光学元件供给气体，供给部对第二光学元件供给气体，以使所述第二光学元件的温度分布产生的第一方向的像散和与所述第一方向不同的第二方向的像散增减方向相互相反、使第一方向的像散收敛于容许范围内，控制第一光学元件的位置或形状，以使第二方向的像散收敛于容许范围内。

技术领域

本发明涉及曝光装置以及物品制造方法。

背景技术

在半导体设备、液晶显示装置等的制造工序中的光刻工序中使用曝光装置，该曝光装置利用照明光学系统对掩模(掩模原版)进行照明，经由投影光学系统向涂敷有感光性的抗蚀剂层的基板投影掩模图案的像。

投影光学系统的光学元件吸收曝光的光而在光学元件内产生温度分布，从而光学元件的折射率分布、面形状发生变化。根据成像特性的观点，最好降低由于光学元件的折射率分布、面形状的变化而可能发生的聚焦差或者像散(象散)等像差等。

因此，已知如下曝光装置，在该曝光装置中，与由于投影光学系统内的部件吸收曝光的光而产生的投影光学系统内部整体的温度上升适应地，向收容投影光学系统的镜筒内供给温度调节后的气体，从而使投影光学系统内的温度分布变化降低。

在日本特开2016-95412号公报中公开了在对设置于投影光学系统的光瞳附近的弯月面透镜与凸面镜之间供给气体时，根据曝光所使用的掩模图案的信息，以使弯月面透镜的温度分布和气体的流动的方向符合的方式进行控制。

在日本特开2016-95412号公报中，使气体流过透镜的温度上升的区域而局部地冷却透镜，所以在对投影光学系统入射了高照度的曝光的光的情况下，估计透镜整体的温度分布不会充分地均匀。在该情况下，特别是使投影光学系统的纵横方向的像散和倾斜方向的像散这两方收敛于容许范围内是困难的。

发明内容

作为解决上述课题的本发明的一个侧面的曝光装置，具有将掩模的图案投影到基板的投影光学系统，所述投影光学系统具有：第一光学元件，能够为了调整所述投影光学系统的像散而变更位置或者形状；以及第二光学元件，配置于所述投影光学系统的光瞳面或者光瞳面的附近，所述曝光装置具有：控制部，控制所述第一光学元件的位置或者形状；以及供给部，为了调整所述第二光学元件的温度分布，对所述第二光学元件供给气体，所述供给部对所述第二光学元件供给气体，以使由于曝光时的所述第二光学元件的温度分布而产生的第一方向的像散和与所述第一方向不同的第二方向的像散的增减的方向相互相反，使所述第一方向的像散收敛于容许范围内，控制所述第一光学元件的位置或者形状，以使曝光时的所述第二方向的像散收敛于容许范围内。

根据以下的实施例的描述(参考附图)，本发明的其它特征变得显而易见。

附图说明

图1是曝光装置的结构图。

图2是示出曝光后的弯月面透镜15’的温度分布的图。

图3是示出泽尼克系数Z5、Z6项的温度分布的图。

图4是示出凸面镜15和弯月面透镜15’的周边结构的图。

图5是镜筒100的剖面图。

图6是示出气体供给后的温度分布的图。

图7是示出像散的校正方法的流程图。

图8是示出实施方式2的镜筒、供气口以及排气口的图。

具体实施方式

以下，根据附图，详细说明本发明的优选的实施方式。