[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示面板

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：

基板；

第一公共电极、第一薄膜晶体管，分别设置于所述基板上；

像素电极，设置于所述第一薄膜晶体管上；

平坦层，设置于所述第一薄膜晶体管上，且覆盖所述像素电极；

配向膜层，设置于所述平坦层上。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述薄膜晶体管包括：

栅极，设置于所述基板上；

第一绝缘层，设置于所述栅极和第一公共电极上；

源极，设置于所述第一绝缘层上；

漏极，设置于所述第一绝缘层上，且与所述像素电极连接。

3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，

所述漏极与所述像素电极通过第一转接孔连接，所述第一公共电极之间通过第二转接孔连接。

4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，

所述平坦层覆盖所述第一转接孔和第二转接孔，以使得所述平坦层远离所述第一转接孔和第二转接孔的一侧平坦化。

5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括：

扫描线，设置于所述基板上，且与所述第一公共电极位于同一层；

非晶硅层，设置于所述第一绝缘层上，且与所述源极、漏极位于同一层；

数据线，与所述扫描线彼此交叉设置，且与所述像素电极位于同一层；

第二绝缘层，设置于所述源极、漏极和非晶硅层上。

6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括：

第二薄膜晶体管，与所述第一薄膜晶体管连接；

第三薄膜晶体管，与所述像素电极连接。

7.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，

所述平坦层为透明有机膜。

8.根据权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，

所述透明有机膜由PFA制成，所述PFA包括树脂、多功能单体、光起始剂、溶剂和添加剂。

9.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：

分别在基板上制备第一公共电极和第一薄膜晶体管；

在所述第一薄膜晶体管上制备像素电极；

在所述第一薄膜晶体管上通过涂布和高温退火制备平坦层，所述平坦层覆盖所述像素电极；

在所述平坦层上涂布配向膜层。

10.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1至8任一项所述的阵列基板。