[发明专利]一种基于软质磨料固着磨具的钽酸锂抛光方法在审
申请号: | 201711221109.8 | 申请日: | 2017-11-29 |
公开(公告)号: | CN108081117A | 公开(公告)日: | 2018-05-29 |
发明(设计)人: | 杭伟;张韬杰;吕冰海;邓乾发;黄晟;王洁;曹霖霖;陈芝向 | 申请(专利权)人: | 浙江工业大学 |
主分类号: | B24B37/10 | 分类号: | B24B37/10;B24B37/14;B24D18/00 |
代理公司: | 杭州斯可睿专利事务所有限公司 33241 | 代理人: | 李百玲 |
地址: | 310014 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 钽酸锂晶片 软质磨料 抛光机 钽酸锂 抛光 固着 磨具 去除 夹具 磨料 氧化剂 反应生成物 水基冷却液 表面形成 固相反应 加工效率 磨具原料 摩擦作用 抛光磨具 热压成形 上下端面 粗糙度 平整度 热固化 磨粒 软质 上盘 脱模 下盘 修整 模具 配制 配置 加工 保证 | ||
一种基于软质磨料固着磨具的钽酸锂抛光方法,包括以下步骤:1)基于软质磨料固着磨具原料的配制;2)将配置好的配料在模具中热压成形,脱模后完成热固化,并对其上下端面进行修整,保证磨具上下端面的平整度和平行度;3)将钽酸锂抛光磨具安装于抛光机的上盘,待加工的钽酸锂晶片放置在会旋转的抛光机下盘,用夹具固定住,启动抛光机,并在上下盘之间注入碱性水基冷却液;加工过程中氧化剂、磨粒和钽酸锂晶片发生固相反应,在钽酸锂晶片表面形成一层软质的、易去除的反应生成物,利用磨料与生成物层之间的摩擦作用将生成物层去除,从而实现钽酸锂晶片的抛光。本发明能够提高钽酸锂晶片的去除率并能降低粗糙度,提高加工效率、降低生产成本。
技术领域
本发明涉及一种抛光方法,尤其是钽酸锂晶片的高效、高质量抛光方法。
背景技术
钽酸锂是一种化学物质,化学式LiTaO
钽酸锂(LiTaO
目前,在高频弹性波器件,2.5G,3G标准下的SAW还没有其他更具优势的商品化材料可以代替,因此LT晶体也被称为无线通讯中最重要的基础材料之一,对于这一类材料主要是采用研磨抛光的加工方法,但是由于其解理性和各向异性等原因,LT晶片在实际生产中往往存在加工效率差成品率低,加工质量难以控制等问题。长久以来,表面质量良好、抛光去除率高、环保的抛光方法一直是研究的热点。因此,本发明提供了一种去除率高、加工表面粗糙度低的软质固着磨具的钽酸锂抛光方法。
发明内容
本发明的目的是为了克服现有钽酸锂晶片抛光效率低、成本高的不足,本发明提供一种加工表面质量好、加工效率高、生产成本低的钽酸锂晶片的抛光方法。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:
一种基于软质磨料固着磨具的钽酸锂抛光方法,所述抛光方法包括以下步骤:
1)软质磨料固着磨具原料的配制:纳米二氧化硅40%~60%、粘结剂20%~40%、固化剂10%~15%、氧化剂5%~10%、去离子水10%~15%和碱性PH调节剂5%~10%;
2)软质磨料固着磨具的制作:在去离子水中加入固化剂,并搅拌使其溶解,随后加入结合剂、纳米二氧化硅、氧化剂和碱性PH调节剂,将其搅拌均匀;将配置好的配料在模具中热压成形,脱模后完成热固化,并对其上下端面进行修整,保证磨具上下端面的平整度和平行度;
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