[发明专利]一种高粘附力速显影性干膜抗蚀剂

权利要求书

1.一种高粘附力速显影性感光干膜抗蚀剂，其特征在于：它由溶剂和溶解在溶剂中的抗蚀核心组分组成；所述抗蚀核心组分的浓度为30-50 wt%，包含碱可溶性树脂、烯属光聚合性不饱和单体、光聚合引发剂、染色剂和添加剂，它们在抗蚀核心组分中的含量分别为30-70 wt%、15-60 wt%、0.1-10 wt%、0.1-5 wt%、0.01-1wt%，所述烯属光聚合性不饱和单体包括具有下述通式(I)所示的含环糊精基团的烯属不饱和双键化合物、含有双酚A结构的丙烯酸化合物、含有聚乙二醇链段的二甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯以及含有磷酸基团的丙烯酸羟乙基酯化合物，且它们在烯属光聚合性不饱和单体中的含量分别为10-50 wt%、10-30 wt%、5-15 wt%、15-60 wt%、1-3 wt%；

(Ⅰ)

式中，R₁和R₂分别独立地选自氢、甲基；圆环表示D-吡喃葡萄糖单元连接的环，n表示D-吡喃葡萄糖单元的个数，为6-12的任意一个整数。

2.根据权利要求1所述的高粘附力速显影性感光干膜抗蚀剂，其特征在于：所述n为6-8。

3.根据权利要求2所述的高粘附力速显影性感光干膜抗蚀剂，其特征在于：所述n为7。

4.根据权利要求1所述的高粘附力速显影性感光干膜抗蚀剂，其特征在于，所述碱可溶性树脂包括通式(Ⅱ)所示的(甲基) 丙烯酸、通式(Ⅲ)所示的(甲基)丙烯酸酯、通式(Ⅳ)所示的苯乙烯或者苯乙烯类衍生物，且它们在碱可溶性树脂中的含量分别为10-30 wt%，55-80 wt%，1-15 wt%；

(Ⅱ)，其中，R₃为氢原子或者甲基；

(Ⅲ)，其中，R₄为氢原子或者甲基，R₅选自C₁-C₁₈的烷基、C₂-C₆的烷氧基；

(Ⅳ)，其中，R₆为氢原子或者甲基，R₇选自氢原子、甲基、甲氧基、叔丁基、卤素原子。

5.根据权利要求1所述的高粘附力速显影性感光干膜抗蚀剂，其特征在于，所述碱可溶性树脂重均分子量在50000-150000。

6.根据权利要求1所述的高粘附力速显影性感光干膜抗蚀剂，其特征在于，所述光聚合引发剂由安息香醚、二苯甲酮及其衍生物、硫杂蒽酮系化合物、蒽醌及其衍生物、噻吨酮系列化合物、六芳基双咪唑系列化合物中的一种或多种按照任意配比混合组成。

7.根据权利要求1所述的高粘附力速显影性感光干膜抗蚀剂，其特征在于，所述添加剂由增塑剂、消泡剂、阻聚剂中的一种或者多种按任意配比混合组成。

8.根据权利要求1所述的高粘附力速显影性感光干膜抗蚀剂，其特征在于，所述溶剂由丁酮、丙酮、异丙醇、甲醇、乙醇的一种或者多种按任意配比混合组成。

9.根据权利要求5所述的高粘附力速显影性感光干膜抗蚀剂，其特征在于，所述碱可溶性树脂重均分子量为70000-120000。