[发明专利]激光标刻装置及其标刻方法

说明书

本发明提供一种激光标刻装置及其标刻方法，其包括载台、支架、紫外激光打标机、光学传导系统、位于所述光学传导系统下方的振镜扫描系统、用于固定产品的加工平台、用于吸附产品的顶升装置、用于定位产品的产品定位柱、位于加工平台周围且用于定位产品的多个产品定位装置、位于加工平台下且用于对产品进行定位的初定位相机、用于移动产品的直线移动平台、以及用于定位及计算加工精确位置的成像定位系统和工控电脑；所述直线移动平台设置于载台上。本发明采用CCD定位，加工精度高，操作简单；通过使用吸附装置使待标刻产品水平固定，标刻过程中保持PET薄膜的完整，从背面支撑待标刻产品区域，防止切断瞬间由于掉落产生应力破坏标刻边缘效果。

技术领域

本发明属于激光标刻技术领域，尤其涉及一种激光标刻装置及其标刻方法。

背景技术

ITO薄膜是指铟锡氧化物的半导体透明导电薄膜，通常将ITO薄膜镀在玻璃基板上， 其厚度范围为100-500nm。ITO薄膜以其在可见光区的高透过率以及很强的导电能力等优质特性，被广泛应用到消费电子领域的触摸屏行业中。传统的ITO刻线采用的是化学 试剂刻蚀，这种方法主要是因其废品率高、成本高而逐渐被淘汰。现在ITO刻线慢慢开 始偏向于成本低、无污染、易操作、良品率高的激光刻蚀技术。

随着技术的发展，在触摸屏ITO行业中的精度要求越来越高，集成化也越来越高端， 传统的刻线方式已渐渐无法满足要求,表现在：蚀刻后会对ITO玻璃面板造成损伤；蚀刻的拐角处有毛刺；尺寸精度误差大；蚀刻的速度慢；难以蚀刻较复杂的图形。

新型的激光刻蚀方式是通过调节高能激光束的焦点位置，使其直接作用于ITO薄膜 层，并调整激光能量，使得ITO层瞬间气化而不影响基底玻璃面板，从而达到蚀刻的效果。激光蚀刻激光蚀刻后均未对玻璃面板造成损伤，尺寸精度误差在15um以内，且激 光蚀刻设备相较于化学试剂刻蚀，设备体积更加小巧、易操作、成本低、良品率高，ITO 激光刻蚀已逐渐成为行业中的主力军,但目前的激光蚀刻设备的生产效率及加工精度仍 无法满足更加精细的生产技术要求。

发明内容

本发明的目的在于提供一种加工精度高、方便标刻产品的后续处理和放置的激光标刻装置及其标刻方法。

本发明提供一种激光标刻装置，其包括载台、固定在载台上的支架、位于支架上至少一个紫外激光打标机；还包括位于所述紫外激光打标机一侧的光学传导系统、位于 所述光学传导系统下方的振镜扫描系统、用于固定产品的加工平台、用于吸附产品的顶 升装置、用于定位产品的产品定位柱、位于加工平台周围且用于定位产品的多个产品定 位装置、位于加工平台下且用于对产品进行定位的初定位相机、用于移动产品的直线移 动平台、以及用于定位及计算加工精确位置的成像定位系统和工控电脑；所述直线移动 平台设置于载台上；所述顶升装置包括位于所述加工平台与直线移动平台之间。

优选地，顶升装置包括位于所述加工平台与直线移动平台之间的吸附气缸、以及与吸附气缸连接且位于加工平台下方的吸附支柱、以及位于所述吸附支柱端部的真空吸附孔；所述真空吸附孔吸柱产品。

优选地，所述成像定位系统1与所述工控电脑连接。

优选地，还包括可用于抽检产品的回路及厚度检测系统。

优选地，所述回路及厚度检测系统包括厚度检测传感器。

优选地，所述产品定位装置位于所述加工平台的下方。

优选地，紫外激光打标机设有四套。

优选地，所述直线移动平台包括真空吸附载台、第一滑轨和第二滑轨，所述第一滑轨和第二滑轨之间呈“十”字形设置，所述第一滑轨固定于所述载台上，所述第二滑 轨滑动设置于所述第一滑轨上，所述真空吸附载台滑动设置于所述第一滑轨上。

本发明还提供一种激光标刻方法，包括以下步骤：