[发明专利]基板处理系统以及基板的处理费用计算系统在审
申请号: | 201711232549.3 | 申请日: | 2017-11-29 |
公开(公告)号: | CN108933093A | 公开(公告)日: | 2018-12-04 |
发明(设计)人: | 中川俊元 | 申请(专利权)人: | 株式会社平间理化研究所 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;G03F7/30;G06Q10/06 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王婷 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 流量计 基板处理系统 服务器系统 药液管理 费用计算系统 累计流量 基板 配管 新液 调制 基板处理机构 测定基板 处理机构 基板制造 计算系统 通信功能 再生机构 补充液 运算部 再生液 计测 原液 存储 网络 再生 配备 补充 服务 | ||
1.一种基板处理系统,其中,
所述基板处理系统具备:
基板处理机构,其使用药液对基板进行处理;
药液管理机构,其对在所述基板处理机构反复使用的所述药液的浓度进行管理;以及
配管,其与所述基板处理机构连接,将由所述药液管理机构向所述药液供给的补充液输送至所述基板处理机构,
在所述配管中配备有累计流量计。
2.根据权利要求1所述的基板处理系统,其中,
所述基板处理系统还具备:
药液调制机构,其将所述药液调制为新液;以及
新液用配管,其与所述基板处理机构及所述药液调制机构连接,通过所述药液管理机构向在所述基板处理机构反复使用的药液供给由所述药液调制机构调制出的所述新液,
在所述新液用配管中配备有累计流量计。
3.根据权利要求2所述的基板处理系统,其中,
所述基板处理系统还具备:
药液再生机构,其将在所述基板处理机构使用后的所述药液再生为能够再利用的再生液;以及
再生液用配管,其与所述基板处理机构及所述药液再生机构连接,通过所述药液管理机构向在所述基板处理机构反复使用的药液供给由所述药液再生机构再生后的所述再生液,
在所述再生液用配管中配备有累计流量计。
4.根据权利要求1所述的基板处理系统,其中,
所述基板处理系统还具备:
药液再生机构,其将在所述基板处理机构使用后的所述药液再生为能够再利用的再生液;以及
再生液用配管,其与所述基板处理机构及所述药液再生机构连接,通过所述药液管理机构向在所述基板处理机构反复使用的药液供给由所述药液再生机构再生后的所述再生液,
在所述再生液用配管中配备有累计流量计。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的基板处理系统,其中,
所述累计流量计具备通信功能。
6.一种基板处理系统,其中,
所述基板处理系统具备:
基板处理机构,其使用药液对基板进行处理;
药液调制机构,其将所述药液调制为新液;以及
新液用配管,其与所述基板处理机构及所述药液调制机构连接,将由所述药液调制机构调制出的所述新液输送至所述基板处理机构,
在所述新液用配管中配备有累计流量计。
7.根据权利要求6所述的基板处理系统,其中,
所述累计流量计具备通信功能。
8.一种基板处理系统,其中,
所述基板处理系统具备:
基板处理机构,其使用药液对基板进行处理;
药液再生机构,其将在所述基板处理机构使用后的所述药液再生为能够再利用的再生液;以及
再生液用配管,其与所述基板处理机构及所述药液再生机构连接,将由所述药液再生机构再生后的所述再生液输送至所述基板处理机构,
在所述再生液用配管中配备有累计流量计。
9.根据权利要求8所述的基板处理系统,其中,
所述累计流量计具备通信功能。
10.一种基板的处理费用计算系统,其中,
所述基板的处理费用计算系统具备:
基板处理机构,其使用药液对基板进行处理;
下述组合中的至少任一组合:对在所述基板处理机构反复使用的所述药液的浓度进行管理的药液管理机构、与同所述基板处理机构连接且将由所述药液管理机构向所述药液供给的补充液输送至所述基板处理机构的配管的组合,将所述药液调制为新液的药液调制机构、与同所述基板处理机构及所述药液调制机构连接且将由所述药液调制机构调制出的所述新液输送至所述基板处理机构的新液用配管的组合,以及将在所述基板处理机构使用后的所述药液再生为能够再利用的再生液的药液再生机构、与同所述基板处理机构及所述药液再生机构连接且将由所述药液再生机构再生后的所述再生液输送至所述基板处理机构的再生液用配管的组合;
基板处理系统,其在所述配管、所述新液用配管以及所述再生液用配管配备有具有通信功能的累计流量计;以及
服务器系统,其经由网络与所述累计流量计连接,
所述服务器系统具备:
接收部,其经由所述网络而接收所述累计流量计所计测出的累计流量;
存储部,其按照每个所述累计流量计而存储由所述接收部接收到的所述累计流量的历史信息;以及
运算部,其基于由所述存储部存储的所述历史信息,按照每个所述基板处理系统而计算规定期间内的由所述基板处理系统处理的基板的处理费用。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造