[发明专利]两类3‑位含吡啶取代基团芳炔前体及其制备在审
| 申请号： | 201711235636.4 | 申请日： | 2017-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN107936050A | 公开（公告）日： | 2018-04-20 |
| 发明（设计）人： | 李杨;吕春杰 | 申请（专利权）人： | 重庆大学 |
| 主分类号： | C07F7/08 | 分类号： | C07F7/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 400044 *** | 国省代码： | 重庆;85 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 吡啶 取代 基团 芳炔前体 及其 制备 | ||
【权利要求书】：
1.两类3-位含吡啶取代基团芳炔前体及其制备
其结构式如下：
2.根据权利要求所述两类3-位含吡啶取代基团芳炔前体及其制备，其特征是，包括以下步骤：
3-位含吡啶取代基团芳炔前体A的合成：
i)在手套箱内，将结构式1溶入乙腈中，加入吡啶N-氧化合物,氟化铯,从手套箱内移出在氩气保护下室温搅拌约8小时；将反应停止搅拌过滤，旋蒸。将得到的粗品溶于四氢呋喃中，室温下加入氢化钠，氩气保护下搅拌半小时后加入PhNTf2，室温搅拌10小时，过滤旋蒸得到粗品3-位含吡啶取代基团芳炔前体A。
ii)粗品经层析柱纯化得到结构式A 3-位含吡啶取代基团芳炔前体。
3-位含吡啶取代基团芳炔前体B的合成：
化合物B的合成反应过程如下所示：
i)在手套箱内，将结构式1溶入乙腈中，加入喹啉N-氧化合物,四丁基氟化铵，从手套箱内移出在氩气保护下室温搅拌约2小时；将反应停止搅拌过滤，旋蒸。将得到的粗品溶于二氯甲烷中，室温下加入氢化钠，氩气保护下搅拌半小时后加入对甲苯磺酰氯，室温搅拌10小时得到粗品3-位含吡啶取代基团芳炔前体B。
ii)粗品经层析柱纯化得到结构式B3-位含吡啶取代基团芳炔前体。
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