[发明专利]两类3‑位含吡啶取代基团芳炔前体及其制备

说明书

技术领域

本发明属于有机化学的技术领域，具体涉及利用非传统1,2-二芳炔前体合成两类3-位含吡啶取代基团的芳炔前体及其制备。

背景技术

含吡啶基团的多取代芳环结构广泛存在于天然产物、生物活性分子、药物分子和染料等有机化合物中。利用简单、快捷的方法制备含吡啶基团的多取代芳基化合物是合成有机化学中重要的研究方向之一。

本专利提出一种3-位含吡啶取代基团芳炔前体的高效合成方法，该方法使用的原料是非传统1,2-二芳炔前体和吡啶N-氧化物。并且，利用该方法合成的芳炔前体可以发生进一步反应，合成含吡啶取代基团的多取代芳基化合物。这种非传统1,2-二芳炔前体与传统的1,2-二芳炔前体所不同的是：此1,2-二芳炔前体含有一个离去基团，两个活化基团；而一般的1,2-二芳炔前体含有两个离去基团，一个活化基团。

具体实施方式

下面结合实施例对本发明作进一步说明：

本发明的两类3-位含吡啶取代基团芳炔前体的结构通式A,B如下：

由A,B的结构式可以看出两类3-位含吡啶取代基团芳炔前体的不同是：结构式A是3-位含芳炔前体取代基团的吡啶化合物，而结构式B是2-位含芳炔前体取代基团的吡啶化合物。

实施例

本发明的两类3-位含吡啶取代基团芳炔前体的合成路线如下：

3-位含吡啶取代基团芳炔前体A的合成：

化合物A的合成反应过程如下所示：

i)在手套箱内，将结构式1(370mg,1.0mmol,2.0equiv)溶入乙腈(MeCN) (25ml)中，加入吡啶N-氧化合物(47.5mg,0.5mmol,1.0equiv),氟化铯(CsF) (302mg,2.0mmol,4.0equiv，从手套箱内移出在氩气保护下室温搅拌约8小时；将反应停止搅拌过滤，旋蒸。将得到的粗品溶于四氢呋喃(THF),(20ml)中，室温下加入氢化钠(NaH,60％,0.75mmol,1.5equiv),搅拌半小时后，PhNTf₂(0.75 mmol,1.5equiv)加入，室温搅拌10小时，过滤旋蒸得到粗品3-吡啶基芳炔前体A。

ii)粗品经层析柱纯化得到结构式A3-吡啶基芳炔前体(140mg)，产率 75％。

3-位吡啶取代基团芳炔前体B的合成：

化合物B的合成反应过程如下所示：

i)在手套箱内，将结构式1(370mg,1.0mmol,2.0equiv.)溶入乙腈(MeCN) (25mL)中，加入喹啉N-氧化合物(73mg,0.5mmol,1.0equiv)，四丁基氟化铵 (1mol/ml,在四氢呋喃中),(TBAF),(1.5ml,3.0equiv),从手套箱内移出在氩气保护下室温搅拌约2小时；将反应停止搅拌过滤，旋蒸。将得到的粗品溶于二氯甲烷(DCM)(20ml)中，室温下加入氢化钠(NaH,60％,0.75mmol,1.5equiv),搅拌半小时后加入对甲苯磺酰氯(TsCl),(0.75mmol,1.5equiv),室温搅拌10小时，过滤旋蒸得到粗品3-吡啶基芳炔前体B。

ii)粗品经层析柱纯化得到结构式3-吡啶基芳炔前体B(154mg)，产率69％。

上述的结构式1的1,2-二芳炔前体为已知的化合物，其物理性质及表征数据参见：“AnAryne-Based Route to Substituted Benzoisothiazoles”(通过2,6二溴苯酚与三甲基氯硅烷，丁基锂，三氟甲磺酸酐合成),Yiding Chen and Michael C. Willis.Org.Lett.2015,17,4786-4789.

上述的结构式喹啉N-氧化合物已知的化合物，其物理性质及表征数据参见：“Expedient Synthesis ofα-(2-Azaheteroaryl)Acetates via the Addition of Silyl KeteneAcetals toAzine-N-oxides”(通过喹啉与间氯过氧苯甲酸合成)，Allyn T. Londregan,Kristen Burford,Edward L.Conn,and Kevin D.Hesp.Org.Lett.2014, 16,3336-3339.

本发明3-位含吡啶取代基团芳炔前体的应用实例：