[发明专利]阵列基板及其制备方法及显示屏

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板具有显示区以及位于所述显示区外侧的非显示区；所述显示区设有薄膜晶体管和电容器；

所述非显示区包括衬底、以及形成于所述衬底上的外围金属走线；

所述外围金属走线包括：

下子层金属，形成于所述衬底上；所述下子层金属与所述显示区的第一金属层同层且绝缘，所述第一金属层包括栅极和电容器的下电极；

中子层金属，直接形成于所述下子层金属上；所述中子层金属与所述显示区的第二金属层同层且绝缘，所述第二金属层包括电容器的上电极；

以及上子层金属，直接形成于所述中子层金属上；所述上子层金属与所述显示区的第三金属层同层且电连接以使信号引出，所述第三金属层形成于覆盖所述第二金属层的层间绝缘层上。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述非显示区还包括用于覆盖所述外围金属走线的保护层。

3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述保护层与所述显示区的平坦化层同层。

4.根据权利要求1-3任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述下子层金属、所述中子层金属、以及所述上子层金属在所述衬底上的投影形状一致。

5.根据权利要求1-3任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述中子层金属、以及所述上子层金属在所述衬底上的投影均位于所述下子层金属在所述衬底上的投影内。

6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一金属层、所述第二金属层、以及所述第三金属层的总厚度大于所述外围金属走线的厚度。

7.一种权利要求1所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

在衬底上形成第一金属图案，以在所述显示区内形成所述第一金属层、以及在所述非显示区内形成所述下子层金属，所述第一金属层包括栅极和电容器的下电极；

形成第二金属图案，以在所述显示区内形成所述第二金属层，在所述非显示区的所述下子层金属上形成所述中子层金属，所述第二金属层包括电容器的上电极；

形成第三金属图案，以在所述显示区内形成所述第三金属层，在所述非显示区内的所述中子层金属上形成所述上子层金属，所述第三金属层形成于覆盖所述第二金属层的层间绝缘层上。

8.根据权利要求7所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，还包括在所述上子层金属形成之后，对上子层金属进行减薄处理。

9.根据权利要求7所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，还包括在所述上子层金属上覆盖平坦化层。

10.一种显示屏，其特征在于，所述显示屏包括权利要求1-6任一项所述的阵列基板。