[发明专利]一种低损耗、巨介电CCTO陶瓷材料及其制备方法有效
申请号: | 201711245607.6 | 申请日: | 2017-12-01 |
公开(公告)号: | CN107954712B | 公开(公告)日: | 2020-12-29 |
发明(设计)人: | 慕春红;宋远强;邓凯;冉奥 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | C04B35/462 | 分类号: | C04B35/462;C04B35/622 |
代理公司: | 成都正华专利代理事务所(普通合伙) 51229 | 代理人: | 李蕊 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 损耗 巨介电 ccto 陶瓷材料 及其 制备 方法 | ||
1.一种低损耗、巨介电CCTO陶瓷材料,其特征在于,包括以下重量份的组分:
钙盐0.62~1.48份,铜盐或者铜的氧化物1.34~4.54份,二氧化钛1.5~2.5份,石墨烯0.012~0.15份,纳米P型半导体0.02~0.06份和粘合剂0.1-0.5份;
所述石墨烯为单层或多层石墨烯;
所述纳米P型半导体为P型ZnO或P型铜锌锡硫化合物;
所述低损耗、巨介电CCTO陶瓷材料通过以下方法制备得到:
(1)将配方量的钙盐、铜盐或者铜的氧化物、二氧化钛、石墨烯混合,加入2~4倍物料重量的去离子水或酒精作为溶剂、2~4倍物料重量的磨球,以200-400r/min的转速球磨1.5-3小时,制得一次球磨料;
(2)将所述一次球磨料烘干后继续粉磨通过100-120目筛,然后于750℃~900℃条件下预烧4~6小时,制得预烧料;
(3)将所述预烧料粉磨后加入配方量的纳米P型半导体,然后按照球:溶剂:料重量比2~4:2~4:1的比例球磨5~7小时,制得二次球磨料;
(4)将所述二次球磨料烘干后继续粉磨,过100-200目筛,加入配方量的粘合剂,造粒,在20~50MPa的条件下压制成圆片;以及
(5)将所述圆片在950℃~1200℃下烧结2~10小时,制得低损耗、巨介电CCTO陶瓷材料,其中,烧结气氛为空气、氧气、氮气和氩气中的一种或多种。
2.根据权利要求1所述的低损耗、巨介电CCTO陶瓷材料,其特征在于,所述钙盐为硝酸钙或碳酸钙。
3.根据权利要求1所述的低损耗、巨介电CCTO陶瓷材料,其特征在于,所述铜盐为硝酸铜,所述铜的氧化物为氧化铜或氧化亚铜。
4.根据权利要求1所述的低损耗、巨介电CCTO陶瓷材料,其特征在于,P型ZnO为Na掺杂或N掺杂的P型ZnO,P型铜锌锡硫化合物为本征P型半导体。
5.根据权利要求1所述的低损耗、巨介电CCTO陶瓷材料,其特征在于,所述粘合剂为石蜡或聚乙烯醇。
6.权利要求1-5任一项所述的低损耗、巨介电CCTO陶瓷材料的制备方法,其特征在于,包括:
(1)将配方量的钙盐、铜盐或者铜的氧化物、二氧化钛、石墨烯混合,加入2~4倍物料重量的去离子水或酒精作为溶剂、2~4倍物料重量的磨球,以200-400r/min的转速球磨1.5-3小时,制得一次球磨料;
(2)将所述一次球磨料烘干后继续粉磨通过100-120目筛,然后于750℃~900℃条件下预烧4~6小时,制得预烧料;
(3)将所述预烧料粉磨后加入配方量的纳米P型半导体,然后按照球:溶剂:料重量比2~4:2~4:1的比例球磨5~7小时,制得二次球磨料;
(4)将所述二次球磨料烘干后继续粉磨,过100-200目筛,加入配方量的粘合剂,造粒,在20~50MPa的条件下压制成圆片;以及
(5)将所述圆片在950℃~1200℃下烧结2~10小时,制得低损耗、巨介电CCTO陶瓷材料,其中,烧结气氛为空气、氧气、氮气和氩气中的一种或多种。
7.根据权利要求6所述的低损耗、巨介电CCTO陶瓷材料的制备方法,其特征在于,所述制备方法还包括:
(6)将步骤(5)制得的陶瓷圆片打磨光滑后涂上银浆并烘干,然后于空气中在550~650℃下烧结30~60 min。
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