[发明专利]掩膜板有效
| 申请号： | 201711249267.4 | 申请日： | 2017-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN107885030B | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | 农艳菲;龚建国;冉应刚;吴俊雄;王衣可;柯贤军;苏君海;李建华 | 申请（专利权）人： | 信利（惠州）智能显示有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/68 | 分类号： | G03F1/68 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 叶剑 |
| 地址： | 516029 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 掩膜板 | ||
1.一种掩膜板，其特征在于，包括空闲区和至少一个有效蒸镀区，所述空闲区设置于所述有效蒸镀区的外侧；
所述至少一个有效蒸镀区开设有多个蒸镀开口，各所述蒸镀开口均匀分布设置；
所述有效蒸镀区与所述空闲区之间还设置有过渡区，所述过渡区包围所述有效蒸镀区设置，且所述过渡区设置于所述空闲区的内侧，所述有效蒸镀区的外侧依次连接所述过渡区和所述空闲区，所述过渡区的厚度小于所述有效蒸镀区的厚度，且小于所述空闲区的厚度；所述空闲区开设有多个通孔。
2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述过渡区的厚度与所述有效蒸镀区的厚度之比为1：(1.5～2)。
3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述过渡区的厚度与所述有效蒸镀区的厚度之比为1：2。
4.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述过渡区的形状为矩形。
5.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述过渡区的宽度为0.5mm～2mm。
6.根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在于，所述过渡区的宽度为1mm。
7.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述过渡区在所述掩膜板的两个相背的表面上均凹陷设置。
8.根据权利要求1-7任一项所述的掩膜板，其特征在于，所述通孔的形状与所述蒸镀开口的形状相同。
9.根据权利要求1-7任一项所述的掩膜板，其特征在于，所述通孔的尺寸与所述蒸镀开口的尺寸相等。
10.根据权利要求1-7任一项所述的掩膜板，其特征在于，相邻两所述通孔之间的间距与相邻两所述蒸镀开口之间的间距相等。
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G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
