[发明专利]一种湿法刻蚀的上料装置

权利要求书

1.一种湿法刻蚀的上料装置，包括上料主机台、反应槽、滚轮、储液槽，其特征在于：所述反应槽设置在所述上料主机台上，所述滚轮设置在所述反应槽的顶部，所述反应槽里放置有腐蚀液，所述反应槽中的腐蚀液的液面高于所述滚轮的底部，所述储液槽中的化学品和水通过循环泵输送至所述反应槽，所述储液槽上设置有化学品配液添加系统和水配液添加系统。

2.根据权利要求1所述的一种湿法刻蚀的上料装置，其特征在于：所述储液槽中还设置有化学品自动补给系统和水自动补给系统。

3.根据权利要求1或2所述的一种湿法刻蚀的上料装置，其特征在于：所述滚轮为螺纹带液滚轮或海绵带液滚轮，所述滚轮带有定向功能。

4.根据权利要求3所述的一种湿法刻蚀的上料装置，其特征在于：硅片通过所述滚轮之间的辊道水平输送，所述硅片的前部刚进入到反应槽中时，所述硅片的头部边缘略微接触反应槽中的腐蚀液的液面，以使得所述腐蚀液在硅片下表面形成薄膜。

5.根据权利要求1或2所述的一种湿法刻蚀的上料装置，其特征在于：所述湿法刻蚀的上料装置还包括独立的循环系统和抽风系统。

6.根据权利要求5所述的一种湿法刻蚀的上料装置，其特征在于：所述反应槽的材质为聚丙烯，其长度为400-1000nm。