[发明专利]一种对准图案制作方法

权利要求书

1.一种对准图案制作方法，其特征在于，包括：

提供一衬底，在所述衬底的上表面上形成第一对准图案，且所述第一对准图案为连续图案；

在所述衬底的所述上表面形成阻挡层，所述阻挡层覆盖所述第一对准图案；在所述阻挡层的上表面形成第二对准图案，且所述第二对准图案为连续图案；

在所述阻挡层上形成抗蚀图案层，所述抗蚀图案层覆盖所述第二对准图案；

在所述抗蚀图案层中形成多个间隔排布的定义图形边界区，以构成复合式硬掩膜层；其中，所述第一对准图案的分布面积和所述第二对准图案的分布面积均大于所述定义图形边界区的面积，所述第一对准图案和所述第二对准图案均延伸分布在相邻的多个所述定义图形边界区之间，以使所述第一对准图案和所述第二对准图案均被多个所述定义图形边界区分隔成多个图案区块；

将所述定义图形边界区中显露的所述第二对准图案转印到所述第一对准图案上，使所述第一对准图案与所述第二对准图案叠合形成复合图案；

将所述复合图案转印到所述衬底，以在所述衬底中形成在所述定义图形边界区中限定的对准标记。

2.如权利要求1所述的对准图案制作方法，其特征在于，形成所述第一对准图案的步骤包括：

在所述衬底的所述上表面沉积第一抗反射涂层；

在所述第一抗反射涂层的上表面沉积图形化的第一光刻胶；

在所述第一光刻胶表面沉积第一氧化层；以及

蚀刻所述第一光刻胶、所述第一氧化层以及部分所述第一抗反射涂层，使蚀刻后的所述第一抗反射涂层在所述衬底的所述上表面形成所述第一对准图案。

3.如权利要求1所述的对准图案制作方法，其特征在于，所述阻挡层包含第二光刻胶、第二抗反射涂层以及第二氧化层，以及

形成所述第二对准图案的步骤包括：

在所述衬底的所述上表面沉积第二光刻胶，所述第二光刻胶覆盖所述第一对准图案；

在所述第二光刻胶的上表面沉积第二抗反射涂层；

在所述第二抗反射涂层的上表面沉积图形化的第三光刻胶；

在所述第三光刻胶表面沉积第二氧化层；以及

蚀刻所述第三光刻胶和部分所述第二氧化层，使蚀刻后的所述第二氧化层在所述第二抗反射涂层的所述上表面形成所述第二对准图案。

4.如权利要求3所述的对准图案制作方法，其特征在于，形成所述抗蚀图案层的步骤包括：

在所述第二抗反射涂层的所述上表面沉积第四光刻胶，所述第四光刻胶覆盖所述第二对准图案；以及

蚀刻部分所述第四光刻胶至所述第二抗反射涂层的所述上表面，使蚀刻后的所述第四光刻胶中形成定义图形边界区。

5.如权利要求2所述的对准图案制作方法，其特征在于，所述衬底包含第三氧化层和沉积在所述第三氧化层上的碳化层，以及所述第一抗反射涂层沉积在所述碳化层上。

6.如权利要求5所述的对准图案制作方法，其特征在于，在所述碳化层与所述第一抗反射涂层之间形成至少一组依次堆叠的另一所述第一抗反射涂层和另一所述碳化层。

7.如权利要求5所述的对准图案制作方法，其特征在于，所述对准标记形成于所述第三氧化层中。

8.如权利要求1-7任一项所述的对准图案制作方法，其特征在于，在所述第一对准图案与所述第二对准图案之间形成至少一层其他对准图案，所述其他对准图案的形成方式与所述第二对准图案的形成方式一致。

9.如权利要求1-7任一项所述的对准图案制作方法，其特征在于，在所述抗蚀图案层的中心位置形成定位标记，各定义图形边界区形成在所述定位标记的两侧。