[发明专利]一种对准图案制作方法

说明书

本发明涉及一种对准图案制作方法，包括：提供一衬底，在衬底的上表面上形成第一对准图案；在衬底的上表面形成阻挡层，阻挡层覆盖第一对准图案，并在阻挡层中形成第二对准图案；在阻挡层上形成抗蚀图案层，抗蚀图案层覆盖第二对准图案；在抗蚀图案层中形成多个间隔排布的定义图形边界区，以构成复合式硬掩膜层，其中第一对准图案延伸分布在相邻的多个定义图形边界区之间，第二对准图案延伸分布在相邻的多个定义图形边界区之间，使第一对准图案和第二对准图案皆为连续图案并以多个定义图形边界区分隔成多个图案区块。本发明方法简化了对准图案的制作难度，提高了各层对准图案叠合的套准精度和完整性，减少图形杂讯。

技术领域

本发明涉及半导体技术领域，特别涉及一种对准图案制作方法。

背景技术

现有技术中的对准图案制作方式需要考虑不同对准图案层之间的套准精度问题，各对准图案层在依次叠对时如果对准不完整，则会造成定义图形边界出现偏差，从而使得曝光机的后续使用会出现杂讯。例如，三合一对准图案的制作方法是在堆叠的三个对准图案层上分别形成形状和位置完全相同的对准图案，如图1-3所示，依次形成的第一对准图案层100、第二对准图案层200和第三对准图案层300，在第一对准图案层100上形成第一对准图案101，在第二对准图案层200上形成与第一对准图案101形状位置相对应的第二对准图案201，在第三对准图案层300上形成与第二对准图案201形状位置相对应的定义图形边界区301，而在制作过程中由于设备和工艺的制约，在对准时必然会存在一定的偏差量，因此造成最终制成的对准图案出现在后续使用时出现杂讯。

在背景技术中公开的上述信息仅用于加强对本发明的背景的理解，因此其可能包含没有形成为本领域普通技术人员所知晓的现有技术的信息。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例希望提供一种对准图案制作方法，以解决或缓解现有技术中存在的技术问题，至少提供一种有益的选择。

本发明实施例的技术方案是这样实现的：

根据本发明的一个实施例，提供一种对准图案制作方法，包括：

提供一衬底，在所述衬底的上表面上形成第一对准图案；

在所述衬底的所述上表面形成阻挡层，所述阻挡层覆盖所述第一对准图案，并在所述阻挡层中形成第二对准图案；

在所述阻挡层上形成抗蚀图案层，所述抗蚀图案层覆盖所述第二对准图案；

在所述抗蚀图案层中形成多个间隔排布的定义图形边界区，以构成复合式硬掩膜层，其中所述第一对准图案延伸分布在相邻的多个所述定义图形边界区之间，所述第二对准图案延伸分布在相邻的多个所述定义图形边界区之间，使所述第一对准图案和所述第二对准图案皆为连续图案并以多个所述定义图形边界区分隔成多个图案区块。

在一些实施例中，还包括：将所述定义图形边界区中显露的所述第二对准图案和所述第一对准图案转印到所述衬底上，以在所述衬底上形成对准标记。

在一些实施例中，所述第一对准图案的分布面积和所述第二对准图案的分布面积均大于所述定义图形边界区的面积，所述第一对准图案和所述第二对准图案在所述抗蚀图案层遮盖下的部位不转印到所述衬底。

在一些实施例中，在所述衬底上形成所述对准标记的步骤包括：

将所述定义图形边界区中显露的所述第二对准图案转印到所述第一对准图案上，使所述第一对准图案与所述第二对准图案叠合形成复合图案；以及

将所述复合图案转印到所述衬底，以在所述衬底中形成在所述定义图形边界区中限定的对准标记。

在一些实施例中，形成所述第一对准图案的步骤包括：

在所述衬底的所述上表面沉积第一抗反射涂层；

在所述第一抗反射涂层的上表面沉积图形化的第一光刻胶；