[发明专利]一种光学薄片器件上盘方法

说明书

本发明提供了一种光学薄片器件上盘方法，通过使用平面度误差较小的毛玻璃平板作为光学薄片器件上盘前的基准,使固定后的多件光学薄片器件的上表面在一个平面上，克服了光学薄片器件表面高低不平问题，减少了后续研磨加工的时间和难度。并且，由于固定后的多件光学薄片器件的上表面在一个平面上，省去了由于多个光学薄片器件上表面高低不平所增加的光学薄片器件的毛坯厚度，节约了原材料成本。同时，本方法使用了低熔点热熔胶降低了光学薄片器件的热应力和粘接材料的收缩力，减少了光学薄片器件在加工下盘后的形变，提高了加工质量和产品合格率。

技术领域

本发明涉及光学加工技术领域，尤其涉及一种光学薄片器件上盘方法。

背景技术

现有的光学薄片器件上盘方法是先把铸铁粘盘在电炉上加热，再把上盘蜡涂在铸铁粘盘表面，然后把光学薄片器件摆放到铸铁粘盘上，待蜡完全浸入光学薄片器件和铸铁粘盘之间再把铸铁粘盘从电炉上取下，蜡冷却凝固后光学薄片器件就固定在了铸铁粘盘上。这种方法的缺点在于，由于蜡层薄厚不同，光学薄片器件自身厚度有公差，光学薄片器件上盘后，多个光学薄片器件的上表面不在同一个平面上，增加了后续研磨的时间和难度，并且把整盘光学薄片器件的表面磨平需要磨去更多的尺寸，增加了原材料的成本。专利CN201210069831公开了另一种光学零件上盘方法，但并未克服上述问题。此外，由于光学薄片器件直接摆放在铸铁粘盘表面，热量直接传导到光学薄片器件上，在蜡冷却过程中由于光学薄片器件本身的热应力和蜡层收缩力，光学薄片器件发生形变，而在研磨、抛光工序结束后，光学薄片器件下盘，这时由于蜡层拉力和光学薄片器件本身应力的释放，原光学薄片器件的形变回弹，抛光好的面型发生形变，影响加工质量。

发明内容

鉴于上述现有技术的不足，本发明提供了一种光学薄片器件上盘方法。该方法使用低熔点热熔胶涂抹光学薄片器件背面，并在光学薄片器件上盘前先摆放在毛玻璃平板上，光学薄片器件上盘后，各光学薄片器件的表面在一个平面上，减少了研磨时间，也减少了由于光学薄片器件表面高低不平所增加的毛坯厚度，节约了原材料成本，并且由于使用了低熔点热熔胶，降低了热应力和中间粘连物的收缩力，降低了光学薄片器件下盘后变形，提高了加工质量和产品合格率。

本发明的技术方案如下：

一种光学薄片器件上盘方法，包括步骤：

S1：根据铸铁粘盘的规格选用与铸铁粘盘盘面同样大小的毛玻璃平板并选用熔点在50摄氏度以下的低温热熔胶；

S2；加热光学薄片器件使其温度至热熔胶的熔点；

S3：将热熔胶涂在述光学薄片器件的一面上，使其在光学薄片器件的一面上形成厚度一致的热熔胶薄层；

S4：以互不相接的方式将玻璃垫片和光学薄片器件平铺在水平放置的毛玻璃平板上，并使玻璃垫片在毛玻璃平板的边缘且光学薄片器件无热熔胶的一面与毛玻璃平板相贴；

S5：加热铸铁粘盘至热熔胶的熔点；

S6：将铸铁粘盘与毛玻璃平板水平对应下压熔化热熔胶薄层，当铸铁粘盘下压至玻璃垫片时，停止下压；

S7：冷却铸铁粘盘使热熔胶薄层凝固，光学薄片器件粘在铸铁粘盘上。

优选的，毛玻璃平板的平整度在+0.002mm以内。

优选的，将光学薄片器件平铺在平板型电加热器上进行加热。

优选的，在光学薄片器件和平板型电加热器之间垫2层纸片。

优选的，在光学薄片器件表面涂抹的热熔胶薄层的厚度为1.5mm。

优选的，可以将涂抹好热熔胶薄层的光学薄片器件以胶面向上的方式平摊在周转盘中待用。

优选的，使用的玻璃垫片的厚度为1.2mm。