[发明专利]多带电粒子束曝光方法以及多带电粒子束曝光装置

权利要求书

1.一种多带电粒子束曝光方法，其特征在于，

在使用基于带电粒子束的多束，将按每束预先设定的多个控制照射时间所对应的多个分割发射分别组合来对相同的照射位置持续进行该组合的多个分割发射，由此对多重曝光中的每个表示各次曝光处理的通路的各束的照射位置分别进行所希望的照射时间的曝光的情况下，使用在对于每个分割发射按照该分割发射进行了基于带电粒子束的曝光的情况下因消隐控制的误差而引起的、预先取得的消隐误差时间，对于每个控制照射时间，运算按照与该控制照射时间对应的上述分割发射的组合由带电粒子束进行了曝光的情况下的实效照射时间，

创建表示上述控制照射时间与上述实效照射时间的关系的相关关系数据，

使用上述相关关系数据，按试样的每个照射位置，选择与所希望的照射时间更接近的上述实效照射时间所对应的上述分割发射的组合，

使用上述多束，按照对于上述试样的每个照射位置选择出的上述分割发射的组合来进行曝光。

2.根据权利要求1所述的多带电粒子束曝光方法，其特征在于，

上述分割发射的组合按多重曝光中的每个表示各次曝光处理的通路来选择，

以按每个通路选择的上述分割发射的组合的实效照射时间的合计更接近上述多重曝光中的所有通路量的所希望的照射时间的方式，选择各通路的上述分割发射的组合。

3.根据权利要求1所述的多带电粒子束曝光方法，其特征在于，

使用比进行各束的消隐控制的情况下的整定时间充分长的不同的多个第1评价用控制照射时间，按每个第1评价用控制照射时间，测定在以该第1评价用控制照射时间对评价用基板进行了基于带电粒子束的非分割曝光的情况下形成的第1图案尺寸，

测定在对评价用基板进行了上述多个分割发射中的对象分割发射被反复多次进行的分割曝光与比上述整定时间充分长的第2评价用控制照射时间的非分割曝光的组合的情况下所形成的第2图案尺寸，

使用按每个上述第1评价用控制照射时间测定出的上述第1图案尺寸的结果，对能够获得上述第2图案尺寸的第3评价用控制照射时间进行近似，

使用上述第2评价用控制照射时间、上述第3评价用控制照射时间、上述对象分割发射的控制照射时间以及上述对象分割发射的反复次数，运算上述对象分割发射的上述消隐误差时间。

4.根据权利要求3所述的多带电粒子束曝光方法，其特征在于，

针对上述多个分割发射中的比上述整定时间短的控制照射时间的分割发射，运算上述消隐误差时间。

5.根据权利要求3所述的多带电粒子束曝光方法，其特征在于，

设定进行上述多重曝光的情况下的多重度即通路数。

6.根据权利要求5所述的多带电粒子束曝光方法，其特征在于，

设定量化单位，该量化单位用于以等级值定义进行上述非分割曝光的情况下所使用的照射时间。

7.根据权利要求6所述的多带电粒子束曝光方法，其特征在于，

按每个上述第1评价用控制照射时间，使用评价图案对成为单位照射区域的像素进行上述非分割曝光，上述非分割曝光不使用分割发射而通过1次束的发射来照射。