[发明专利]光学防伪元件及其制作方法

权利要求书

1.一种光学防伪元件，该光学防伪元件包括：

基材；

位于所述基材上的起伏结构层，该起伏结构层至少包括由第一微结构组成的第一区域和由第二微结构组成的第二区域，其中所述第一微结构的深宽比小于所述第二微结构的深宽比；

仅位于所述第一区域上的反射层；

位于所述反射层之上且覆盖所述第一区域的至少第一子区域的介质层；以及

位于所述介质层之上且仅覆盖所述第一区域的所述第一子区域而不覆盖所述第一区域的第二子区域的吸收层，其中所述第一子区域能够与所述第二区域邻接。

2.一种光学防伪元件，该光学防伪元件包括：

基材；

位于所述基材上的起伏结构层，该起伏结构层至少包括由第一微结构组成的第一区域和由第二微结构组成的第二区域，其中所述第一微结构的深宽比小于所述第二微结构的深宽比；

仅位于所述第一区域上的反射层；

位于所述反射层之上且仅覆盖所述第一区域的第一子区域的第一介质层；

位于所述反射层之上且仅覆盖所述第一区域的第二子区域的第二介质层，其中所述第二介质层的厚度不同于所述第一介质层的厚度；以及

仅位于所述第一介质层及所述第二介质层之上的吸收层。

3.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，所述第一微结构为周期性结构或非周期性结构中的一种或组合，所述第一微结构为平坦结构、正弦型结构、矩形光栅结构、梯形光栅结构、闪耀光栅结构中的一种或者组合。

4.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，所述第一微结构的深宽比小于0.3。

5.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，所述第二微结构为周期性结构或非周期性结构中的一种或组合，所述第二微结构为正弦型结构、矩形光栅结构、梯形光栅结构、闪耀光栅结构中的一种或者组合。

6.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，所述第二微结构的深宽比大于0.3。

7.根据权利要求6所述的光学防伪元件，其中，所述第二微结构的深宽比范围是0.5至1.0。

8.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，所述第二微结构的深度范围为80nm至8000nm，宽度范围为100nm至20000nm。

9.一种光学防伪元件的制作方法，包括：

步骤S11，在基材的表面上形成起伏结构层，该起伏结构层至少包括由第一微结构组成的第一区域和由第二微结构组成的第二区域，其中所述第一微结构的深宽比小于所述第二微结构的深宽比；

步骤S12，在所述起伏结构层上气相沉积反射层；

步骤S13，在所述反射层上气相沉积介质层；

步骤S14，在对应于第一区域的至少局部区域的介质层上印刷可溶性油墨；

步骤S15，气相沉积吸收层，该吸收层覆盖在根据所述步骤S11至步骤所述S14所形成的结构上；

步骤S16，将根据所述步骤S11至所述步骤S15所形成的结构置于能将所述可溶性油墨溶解的第一溶剂中，直到所述可溶性油墨和所述吸收层中覆盖在该可溶性油墨上的部分被去除为止；

步骤S17，将根据所述步骤S11至所述步骤S16获得的结构置于能与所述反射层反应的第二溶剂中，直到所述反射层、所述介质层和所述吸收层各自覆盖在所述第二区域上的部分被去除为止。

10.根据权利要求9所述的方法，其中，所述反射层由铝或者铝合金构成。

11.根据权利要求9所述的方法，其中，所述可溶性油墨为水可溶性油墨。

12.根据权利要求9所述的方法，其中，所述第一溶剂和所述第二溶剂为同一溶剂，所述步骤S16和所述步骤S17在同一工序中完成。