[发明专利]光学防伪元件及其制备方法

说明书

本发明提供一种光学防伪元件及其制备方法，属于光学防伪领域。所述光学防伪元件至少包括：基材；位于所述基材上的起伏结构层，该起伏结构层包括具有第一起伏结构的第一区域和具有第二起伏结构的第二区域，其中所述第一起伏结构表面的比体积小于所述第二起伏结构表面的比体积；仅位于所述第一区域上的镀层；位于所述镀层上且覆盖所述第一区域的至少第一子区域的具有第一颜色特征的涂层；以及位于所述镀层上且覆盖所述第一区域的至少第二子区域的具有不同于所述第一颜色特征的第二颜色特征的涂层。本发明提供的光学防伪元件实现了多彩色特征和无误差精准镂空特征相集成的效果，能够兼具鲜艳的外观和极高的抗伪造能力。

技术领域

本发明涉及光学防伪领域，具体地，涉及一种光学防伪元件及其制备方法。

背景技术

目前，钞票、信用卡、护照等各类高安全或高附加值印刷品中广泛采用了光学防伪技术。在各种光学防伪技术中，为了增加图像的亮度，光学防伪元件一般采用金属镀层或者高折射率的无机或有机镀层，甚至多层干涉膜颜色光变镀层。对镀层进行镂空从而形成图案化能够大幅度提高光学防伪元件的视觉效果和抗伪造能力。

对镀层进行镂空一般采用印刷碱洗镂空工艺。其基本原理是利用碱液对镀层(例如，铝层)的化学腐蚀作用而达到镂空的目的，具体执行时需先在基材上蒸镀反射层，然后在不需要镂空的位置印刷保护层，然后浸入碱液以腐蚀掉未被保护层覆盖的镀层，从而形成镂空图文。针对铝层，也有公司采用酸代替碱与铝反应进行镂空。在这种镂空工艺中，印刷保护层需与膜上的光学微结构图像(例如，全息图像)进行套印对准。而现有设备的套印误差一般都在0.1mm以上，且难以稳定控制，因此得到连续化的、准确定位的镂空图像具有很高的难度，并致使成品率低。

近年来，光学防伪行业开发了具有精准无误差特征的脱金属镂空技术，镂空线条的精细度可达微米量级，进一步提升了防伪力度。例如，专利申请公开号为US2008/0050660A1的美国专利申请提出了一种去镀层方案。首先，提供含有深宽比大的凹凸结构的第一区域和深宽比更小的凹凸结构的第二区域。接着，在该凹凸结构层上，以均匀的表面密度形成金属反射镀层。然后，在金属反射镀层上形成感光胶层。然后，从施工一侧的对侧将层叠体的整面曝光。这样，由于第一区域和第二区域的镀层光透过率的差异，与第一区域对应的感光胶层能够以更高的效率产生光反应。接着，通过采用适当的溶剂等对其进行处理，将第一区域或第二区域对应的感光胶层除去。然后，采用未被除去的感光胶层作为保护层，进行金属反射层的蚀刻处理。如此，只将金属反射层中的与第一区域或第二区域对应的部分除去，达到了准确定位的去反射层镂空效果。

公开号为CN102460236A的中国专利申请提出了另外一种去反射镀层解决方案。首先，提供含有平坦的或深宽比小的凹凸结构的第一区域和含有深宽比更大的凹凸结构的第二起伏结构层。接着，在该凹凸结构层上，以均匀的表面密度形成金属反射层。然后，在金属反射层上蒸镀不同于金属反射层材料的掩膜层，掩膜层一般由无机化合物构成。掩膜层的厚度需满足以下条件：在第一区域覆盖有完整连续的掩膜层，而第二区域的掩膜层在凹部或凸部之间有开口。接着，将掩模层暴露于可与金属反射层材料反应的气体或液体中。这样，与第二区域对应的金属反射层和掩膜层均被除去，而与第一区域对应的金属反射层得以完整保留。

但是，本申请发明人在实施上述方案的过程中发现，上述两种方法呈现的图像均为由纯金属反射层呈现的单一颜色特征，无法兼顾采用油墨呈现的多彩色特征。

发明内容

本发明实施例的目的是提供一种光学防伪元件及其制备方法，用于解决或至少部分解决上述技术缺陷。

为了实现上述目的，本发明提供一种光学防伪元件，该光学防伪元件至少包括：基材；位于所述基材上的起伏结构层，该起伏结构层包括具有第一起伏结构的第一区域和具有第二起伏结构的第二区域，其中所述第一起伏结构表面的比体积小于所述第二起伏结构表面的比体积；仅位于所述第一区域上的镀层；位于所述镀层上且覆盖所述第一区域的至少第一子区域的具有第一颜色特征的涂层；以及位于所述镀层上且覆盖所述第一区域的至少第二子区域的具有不同于所述第一颜色特征的第二颜色特征的涂层。