[发明专利]平板探测器残影校正方法及其校正装置

说明书

本发明提供一种平板探测器残影校正方法，通过测试数据提取出单帧图像残影衰减系数，利用该系数实时计算出前N张图像残留在当前帧图像里的残影值，并对当前帧图像做实时校正。该方法简洁、不增加硬件成本，不损失有效图像信息；既能够大幅降低残影值，又不会造成校正过量，有效提高成像质量；该残影校正系数能够在任何曝光剂量，任何曝光时长下使用，该系数只与材料本身性质有关，对于同一批次同一材料的X射线平板探测器，该系数均能适用；在后续产品升级或者维护中，并不需要技术人员的现场服务，只需发布优化升级的软件包即可，从而降低人力成本，提高工作效率。

技术领域

本发明涉及医疗或工业使用的X射线平板探测器技术领域，属于图像处理技术，特别是涉及一种平板探测器残影校正方法及其校正装置。

背景技术

X射线平板探测器主流材料为非晶硅和非晶硒，由于非晶硅和非晶硒平板探测器本身的物理特性：一定拍摄条件下，其曝光的图像会残留到后面采集的图像中，如对于动态探测器，在一次曝光中多次采集图像，本次曝光中采集的第n帧亮场图像，会残留到第n+1，n+2，n+3……帧图像中；其中，第n+m帧图像中所含有的第n帧图像信息的百分比，称之为第n帧图像残留在第n+m帧里的残影值。

当残影值较大时，会严重混淆当前帧采集到的图像信息，影响图像质量；又或者，当残影值较小，但曝光时间较长、连续采集的亮场图像较多时，多帧亮场图像累积的残影也会很大，影响后续采集的图像质量；由于残影值受温度、曝光剂量、曝光时间等因素的影响较大，残影值虽较小但易受外界因素干扰，一旦校正残影系数有较小偏差，就会使得累积残影值产生较大偏差，故而极易引起校正过量或校正不足。

当前，大多研发平板探测器的企业或研究单位，主要还是通过硬件上的改进来降低图像残影，如改善玻璃的工艺制成。但是，这些技术手段繁琐、复杂且昂贵。也有部分企业或研究机构从图像处理角度入手，对采集的图像进行后处理，通过做残影校正来降低残影值，如专利CN200710005251使用递归计算，从放射线检测信号中去除滞后部分，获得校正的放射线检测信号。但在该专利中，其未能给出适宜的残影校正系数计算方法，很难有效的校正残影信号。如设置残留比满足在此情况下，残留比极易受外界影响而使实际值继而使得残影校正过量；且其假设γ₁＝γ₂＝…＝γ_n＝…＝γ_N-1＝γ_N，难以对每一帧残影做出准确的评估计算，会使得校正时减去过少的第n帧残影，而减去过量的第n+x帧残影，使得校正后的图像损失了有效信息，影响图像完整性。

发明内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本发明的目的在于提供一种平板探测器残影校正方法及其校正装置，用于解决现有技术中通过硬件改进降低残影的方法繁琐、复杂且昂贵，以及通过图像处理进行残影校正容易校正过量而影响图像质量的问题。

为实现上述目的，本发明采用以下方案：一种平板探测器残影校正方法，所述平板探测器为可连续采集图像的动态平板探测器，所述平板探测器的图像残影校正方法至少包括以下步骤：S1、通过测试获取亮场图像及曝光前后暗场图像信息；S2、计算单帧图像残留在后续图像中的残影值，通过拟合所述单帧图像残留在后续图像中的残影值，计算单帧图像的残影衰减系数；S3、根据所述单帧图像的残影衰减系数迭代计算前n帧图像残留在当前帧的残影积累量，n为大于1的正整数；S4、以当前帧采集图像减去前n帧图像残留在当前帧的残影积累量，获得残影校正后的图像。

于本发明一实施方式中，在所述步骤S1中，获取亮场图像及曝光前后暗场图像信息至少包括以下步骤：S11、开机预热；S12、采集本底校正模板、增益校正模板、坏点校正模板并存储；S13、以设定曝光时间对平板探测器进行曝光，连续采集暗场-亮场-暗场图像，其中，所述设定曝光时间为m*T，m为小于5的正整数，T为单帧图像采集时间；S14、对采集的图像进行本底校正、增益校正、坏点校正；S15、存储本底校正、增益校正、坏点校正后的图像。