[发明专利]一种具有内增光程的量子点薄膜在审
申请号: | 201711308354.2 | 申请日: | 2017-12-11 |
公开(公告)号: | CN107797339A | 公开(公告)日: | 2018-03-13 |
发明(设计)人: | 王新辉;邱晓华 | 申请(专利权)人: | 南通惟怡新材料科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/13357 | 分类号: | G02F1/13357 |
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地址: | 226500 江苏省南通*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 增光 量子 薄膜 | ||
1.一种具有内增光程的量子点薄膜,其特征在于,它包括两层高分子聚合物膜;所述高分子聚合物膜包括高分子基膜,一层高分子聚合物膜基膜一侧表面设置有扩散粒子涂层或者微结构光学扩散结构层,基膜另一侧表面设置有阻隔层,并在阻隔层上设置有微棱镜点阵层,另一层高分子聚合物膜基膜一侧表面不设置或者设置有扩散粒子涂层或者微结构光学扩散结构层,基膜另一侧表面设置有阻隔层,并在阻隔层上设置有微棱镜点阵层;所述两层高分子聚合物膜的微棱镜点阵层之间面对面通过第三聚合物胶聚合固化贴合。
2.根据权利要求1所述的一种具有内增光程的量子点薄膜,其特征是所述阻隔层为阻隔材料涂布或者真空镀在基膜上形成,或者为一层高分子光学膜层。
3.根据权利要求2所述的一种具有内增光程的量子点薄膜,其特征是所述光学膜层采用具有阻隔性的单层结构或者具有阻隔性的多层复合结构。
4.根据权利要求2所述的一种具有内增光程的量子点薄膜,其特征是所述阻隔材料包括高阻隔材料、二氧化硅材料、氧化铝材料。
5.根据权利要求1所述的一种具有内增光程的量子点薄膜,其特征是所述基膜、光学膜层均采用高分子材料,高分子材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯或者聚酰亚胺。
6.根据权利要求1所述的一种具有内增光程的量子点薄膜,其特征是所述微棱镜点阵层采用点阵材料通过紫外线成形工艺制作,点阵材料为第一聚合物胶或者第二聚合物胶,微棱镜点阵层微棱镜高度在3um-100um,顶角角度45-130°,且两层微棱镜点阵层平行或者相差一个角度。
7.根据权利要求6所述的一种具有内增光程的量子点薄膜,其特征是所述第一聚合物胶为具有量子点材料的聚合物胶,折射率为n1;第二聚合物胶为具有量子点材料的聚合物胶,折射率为n2;第三聚合物胶为具有量子点材料的聚合物胶,折射率为n3。
8.根据权利要求7所述的一种具有内增光程的量子点薄膜,其特征是所述具有量子点材料的聚合物胶为丙烯酸酯聚合物、环氧树脂聚合物和固化引发剂。
9.根据权利要求1所述的一种具有内增光程的量子点薄膜,其特征是所述微结构光学扩散结构层由紫外成型胶通过紫外线照射聚合或者热固化方式制成,紫外成型胶由丙烯酸酯系列聚合物和光引发剂组成。
10.根据权利要求1所述的一种具有内增光程的量子点薄膜,其特征是所述第三聚合物胶通过紫外光照射聚合固化或者热固化方式连接两层高分子聚合物膜。
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