[发明专利]一种功能膜层的制备方法

权利要求书

1.一种功能膜层的制备方法，用于柔性显示屏中，其特征在于，包括下述步骤：

在基板的第一侧涂布液晶形成线偏光片和相位差膜，所述线偏光片位于所述基板和所述相位差膜之间，或者所述相位差膜位于所述基板和所述线偏光片之间；

在所述基板的第一侧或者第二侧形成触摸电极层。

2.根据权利要求1所述的功能膜层的制备方法，其特征在于，

在所述基板的第一侧形成所述触摸电极层时，所述基板的第一侧且在远离所述基板的方向上，依次为相位差膜、线偏光片、触摸电极层，或者所述基板的第一侧且在远离所述基板的方向上，依次为触摸电极层、相位差膜、线偏光片。

3.根据权利要求2所述的功能膜层的制备方法，其特征在于，

所述基板的第一侧且在远离所述基板的方向上，依次为相位差膜、线偏光片、触摸电极层时，所述功能膜层的制备方法还包括下述步骤：

在所述线偏光片上形成有机平坦层，且所述有机平坦层位于所述触摸电极层与所述线偏光片之间；

所述基板的第一侧且在远离所述基板的方向上，依次为触摸电极层、相位差膜、线偏光片时，所述功能膜层的制备方法还包括下述步骤：

在所述触摸电极层上形成有机平坦层，且所述有机平坦层位于所述相位差膜与所述触摸电极层之间。

4.根据权利要求3所述的功能膜层的制备方法，其特征在于，所述功能膜层的制备方法还包括下述步骤：

在所述触摸电极层上远离所述基板的一侧形成电极保护层，所述电极保护层的厚度范围为1~2微米，且所述触摸电极层和所述有机平坦层的总厚度范围不超过8微米。

5.根据权利要求1所述的功能膜层的制备方法，其特征在于，在所述基板的第二侧形成所述触摸电极层时，所述功能膜层的制备方法还包括下述步骤：

在所述触摸电极层上远离所述基板的一侧形成电极保护层；

所述基板的第一侧且在远离所述基板的方向上依次为所述线偏光片和所述相位差膜。

6.根据权利要求1所述的功能膜层的制备方法，其特征在于，所述相位差膜包含1/2相位差膜和/或1/4相位差膜。

7.根据权利要求1所述的功能膜层的制备方法，其特征在于，在所述基板的第一侧或者第二侧形成触摸电极层，具体为：

在所述基板的第一侧或者第二侧形成导电膜层；

采用转印工艺处理所述导电膜层，或者对所述导电膜层进行刻蚀，得到所述触摸电极层。

8.根据权利要求1所述的功能膜层的制备方法，其特征在于，所述基板的厚度范围为10~50微米，所述线偏光片和所述相位差膜的总厚度范围为2~10微米，所述柔性显示屏的厚度范围为30~70微米。

9.根据权利要求1所述的功能膜层的制备方法，其特征在于，所述功能膜层的制备方法还包括下述步骤：

在所述相位差膜上用于制备所述线偏光片的一侧制备配向膜，或者在所述线偏光片上用于制备所述相位差膜的一侧制备配向膜。

10.根据权利要求1所述的功能膜层的制备方法，其特征在于，所述触摸电极层为单层结构，所述基板为PI层。