[发明专利]氧化锆陶瓷、氧化锆陶瓷壳体及其制备方法

权利要求书

1.一种氧化锆陶瓷的制备方法，其特征在于，包括：

提供氧化锆陶瓷基片；

在所述氧化锆陶瓷基片的第一表面制备形成光学镀膜层，所述光学镀膜层的光学曲线与所述氧化锆陶瓷基片的反射光学曲线形状相一致且具有一定的反射率，以提高所述氧化锆陶瓷基片在可见光范围内的透过率，得到氧化锆陶瓷。

2.根据权利要求1所述的氧化锆陶瓷的制备方法，其特征在于，在所述氧化锆陶瓷基片的第一表面制备形成光学镀膜层，包括：

在所述氧化锆陶瓷基片的第一表面采用真空镀膜法沉积制备所述光学镀膜层。

3.根据权利要求2所述的氧化锆陶瓷的制备方法，其特征在于，所述真空镀膜法包括电子束蒸发镀、反应磁控溅射镀、热丝蒸发镀以及离子镀中的任意一种。

4.根据权利要求1所述的氧化锆陶瓷的制备方法，其特征在于，在所述氧化锆陶瓷基片的第一表面制备形成光学镀膜层，包括：

在所述氧化锆陶瓷基片的第一表面制备形成彩色或无色的油墨层；

在所述油墨层沉积制备所述光学镀膜层。

5.根据权利要求4所述的氧化锆陶瓷的制备方法，其特征在于，在所述油墨层制备形成所述光学镀膜层之后，还包括：

在所述光学镀膜层表面制备形成盖底油墨层。

6.根据权利要求4所述的氧化锆陶瓷的制备方法，其特征在于，在所述氧化锆陶瓷基片的第一表面制备形成彩色或无色的油墨层，包括：

在所述氧化锆陶瓷基片的第一表面喷涂或印刷形成所述油墨层。

7.根据权利要求1所述的氧化锆陶瓷的制备方法，其特征在于，在所述氧化锆陶瓷基片的第一表面制备形成光学镀膜层之前，还包括：

在所述氧化锆陶瓷基片的第二表面测试得到反射光学曲线；

根据测试得到的反射光学曲线，计算得到所述光学镀膜层的膜层参数；

根据计算得到的膜层参数在所述氧化锆陶瓷基片的第一表面制备形成所述光学镀膜层。

8.根据权利要求7所述的氧化锆陶瓷的制备方法，其特征在于，所述光学镀膜层的膜层参数包括膜层种类、膜层厚度以及膜层材料中的至少一种。

9.根据权利要求1所述的氧化锆陶瓷的制备方法，其特征在于，所述光学镀膜层为半透半反型膜层。

10.根据权利要求9所述的氧化锆陶瓷的制备方法，其特征在于，所述光学镀膜层的透过率和反射率的比例为1/9～9/1。

11.根据权利要求1所述的氧化锆陶瓷的制备方法，其特征在于，所述光学镀膜层的厚度为0.5μm～5μm。

12.根据权利要求1所述的氧化锆陶瓷的制备方法，其特征在于，所述光学镀膜层的材料为氧化硅、氧化钛、氮化硅、锆酸镧以及氧化铌中的任意一种。

13.一种氧化锆陶瓷壳体的制备方法，其特征在于，包括：

根据权利要求1至12中任一项所述的氧化锆陶瓷的制备方法制备得到氧化锆陶瓷；

将所述氧化锆陶瓷进行加工，得到氧化锆陶瓷壳体。

14.一种氧化锆陶瓷壳体，其特征在于，包括：氧化锆陶瓷基片和制备于所述氧化锆陶瓷基片的第一表面的光学镀膜层，所述光学镀膜层的光学曲线与所述氧化锆陶瓷基片的反射光学曲线形状相一致且具有一定的反射率；所述氧化锆陶瓷基片上相对所述第一表面的第二表面为所述氧化锆陶瓷壳体的外表面。

15.根据权利要求14所述的氧化锆陶瓷壳体，其特征在于，还包括油墨层，制备于所述氧化锆陶瓷基片的第一表面和所述光学镀膜层之间。

16.根据权利要求15所述的氧化锆陶瓷壳体，其特征在于，还包括盖底油墨层，制备于所述光学镀膜层的表面。