[发明专利]氧化锆陶瓷、氧化锆陶瓷壳体及其制备方法

说明书

本公开是关于一种氧化锆陶瓷、氧化锆陶瓷壳体及其制备方法。氧化锆陶瓷的制备方法，包括：提供氧化锆陶瓷基片；在所述氧化锆陶瓷基片的第一表面制备形成光学镀膜层，以提高所述氧化锆陶瓷基片在可见光范围内的透过率，得到氧化锆陶瓷。本公开通过在氧化锆陶瓷表面制备光学镀膜层，利用光学镀膜层的光学特性改变氧化锆陶瓷表面的反射和透射特性，可以减弱或消除氧化锆陶瓷本身的灰黄相，美化氧化锆陶瓷的外观效果，还可以提高氧化锆陶瓷在可见光范围内的透过率，提升氧化锆陶瓷的外观质感。

技术领域

本公开涉及壳体处理技术领域，尤其涉及一种氧化锆陶瓷、氧化锆陶瓷壳体及其制备方法。

背景技术

氧化锆陶瓷是一种新型陶瓷材料，具备耐磨、耐腐蚀、高强度、高韧性、热稳定性好等诸多优良特性。与金属和塑料相比，氧化锆陶瓷具有莫氏硬度高、介电常数高、无信号屏蔽且生物相容性好的特点，在智能手机、可穿戴设备上具有广阔的应用前景，这使得氧化锆陶瓷以指纹识别盖板、手机后盖为起点，还将逐步切入移动终端产业链，成为继塑料和金属之后的第三大手机背板材料。

氧化锆粉自身为白色粉末，其所制备的陶瓷自然为白色。目前用于电子设备壳体的氧化锆陶瓷透过率低，视觉上通透感不足。

发明内容

本公开的目的在于，提供一种能够提高氧化锆陶瓷通透感的氧化锆陶瓷、氧化锆陶瓷壳体及其制备方法。

根据本公开实施例的第一方面，提供一种氧化锆陶瓷的制备方法，包括：

提供氧化锆陶瓷基片；

在所述氧化锆陶瓷基片的第一表面制备形成光学镀膜层，以提高所述氧化锆陶瓷基片在可见光范围内的透过率，得到氧化锆陶瓷。

可选地，在所述氧化锆陶瓷基片的第一表面制备形成光学镀膜层，包括：

在所述氧化锆陶瓷基片的第一表面采用真空镀膜法沉积制备所述光学镀膜层。

可选地，所述真空镀膜法包括电子束蒸发镀、反应磁控溅射镀、热丝蒸发镀以及离子镀中的任意一种。

可选地，在所述氧化锆陶瓷基片的第一表面制备形成光学镀膜层，包括：

在所述氧化锆陶瓷基片的第一表面制备形成彩色或无色的油墨层；

在所述油墨层沉积制备所述光学镀膜层。

可选地，在所述油墨层制备形成所述光学镀膜层之后，还包括：

在所述光学镀膜层表面制备形成盖底油墨层。

可选地，在所述氧化锆陶瓷基片的第一表面制备形成彩色或无色的油墨层，包括：

在所述氧化锆陶瓷基片的第一表面喷涂或印刷形成所述油墨层。

可选地，在所述氧化锆陶瓷基片的第一表面制备形成光学镀膜层之前，还包括：

在所述氧化锆陶瓷基片的第二表面测试得到反射光学曲线；

根据测试得到的反射光学曲线，计算得到所述光学镀膜层的膜层参数；

根据计算得到的膜层参数在所述氧化锆陶瓷基片的第一表面制备形成所述光学镀膜层。

可选地，所述光学镀膜层的膜层参数包括膜层种类、膜层厚度以及膜层材料中的至少一种。

可选地，所述光学镀膜层为半透半反型膜层。

可选地，所述光学镀膜层的透过率和反射率的比例为1/9～9/1。

可选地，所述光学镀膜层的厚度为0.5μm～5μm。

可选地，所述光学镀膜层的材料为氧化硅、氧化钛、氮化硅、锆酸镧以及氧化铌中的任意一种。