[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置有效
| 申请号： | 201711322180.5 | 申请日： | 2017-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN107946321B | 公开（公告）日： | 2022-06-28 |
| 发明（设计）人： | 林奕呈;盖翠丽;张保侠;王玲;徐攀 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L27/12 | 分类号： | H01L27/12;H01L23/552;H01L27/32;H01L21/77 |
| 代理公司： | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人： | 莎日娜 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制备 方法 显示 面板 显示装置 | ||
1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括层叠设置在基底上的遮光层和有源层，所述遮光层位于靠近所述基底的一侧，所述遮光层在所述基底上的正投影覆盖所述有源层在所述基底上的正投影；
所述遮光层为黑色有机物材料，所述遮光层不导电；
所述阵列基板为AMOLED型的底发射结构的阵列基板，且所述遮光层包括设置在所述阵列基板的金属线区域的部分以及位于所述阵列基板的非开口区域的部分，以遮挡所述金属线区域和所述非开口区域。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，在所述遮光层与所述有源层之间还设置有绝缘层。
3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述遮光层的材料为光阻树脂类材料。
4.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-3任一项所述的阵列基板。
5.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求4所述的显示面板。
6.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，应用于权利要求1-3任一项所述的阵列基板中，包括：
提供基底；
在所述基底上依次图案化形成遮光层和有源层；
其中，所述遮光层位于靠近所述基底的一侧，所述遮光层在所述基底上的正投影覆盖所述有源层在所述基底上的正投影，所述遮光层为黑色有机物材料；
所述阵列基板为AMOLED型的底发射结构的阵列基板，且所述遮光层设置在所述阵列基板的金属线区域。
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述在所述基底上依次图案化形成遮光层和有源层包括：
在所述基底上图案化形成遮光层；
在所述遮光层上图案化形成绝缘层；
图案化形成有源层。
8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述遮光层位于所述阵列基板的非开口区域。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
