[发明专利]擦拭机构及基板清洗装置

说明书

本发明公开了一种擦拭机构，用于擦拭传输中的基板，包括分别可往复移动地擦拭基板的上下两侧的上擦拭件和下擦拭件，所述上擦拭件和所述下擦拭件的移动方向平行于基板所在的承载面，并垂直于基板的传输方向，且所述上擦拭件与所述下擦拭件的移动方向始终相反。本发明还公开了一种基板清洗装置。本发明通过将上擦拭件和下擦拭件分别设置在基板的上下两侧进行往复移动擦拭，使得上擦拭件和下擦拭件的擦拭方向平行于基板所在的承载面，并垂直于基板的传输方向，且上擦拭件与下擦拭件的移动方向相反，不会使基板因为擦拭而发生偏移，可以保证基板表面异物的清洗效果，同时又不会在基板表面产生划痕，也不会损坏清洗装置或影响基板传输。

技术领域

本发明涉及显示面板技术领域，尤其涉及一种擦拭机构及基板清洗装置。

背景技术

液晶显示行业WET(即湿法)设备都会用到Brush(毛刷)结构，用于基板正、背面的清洗。最常见的是roller brush(滚轮式毛刷)，其原理是利用毛刷的转动，使绒毛尖端与基板表面接触，从而扰动、刷洗掉基板表面异物。

传统roller brush结构普遍主要包括：毛刷、驱动部分、毛刷与基板之间间隙的间隙控制部分，通过将毛刷可转动地布置在基板上方，利用驱动部分驱动毛刷转动，同时通过间隙控制部分控制毛刷与基板之间的间隙，以保证毛刷与基板之间的阻尼力，此种间隙控制方式的力度难以把握，导致设备的结构较复杂。而且，随着显示行业不断发展，对基板制程工艺越来越高，使得现行rollerbrush在使用中也存在不少问题。例如，滚动式的毛刷需要与转动辊做在一起，结构笨重，仅仅与基板在相切的部位线性接触，接触面小，较难产生良好的清洗效果，并且，为保证毛刷与基板之间的阻尼力，通常需要使毛刷对基板的压力足够大，导致基板表面易产生刮痕，压力过大也会影响基板的搬运速度甚至造成无法搬运，或导致驱动部分超负荷运转而损坏设备。

发明内容

鉴于现有技术存在的不足，本发明提供了一种擦拭机构及基板清洗装置，可以保证基板表面异物的清洗效果，同时又不会在基板表面产生划痕，也不会损坏清洗装置或影响基板传输。

为了实现上述的目的，本发明采用了如下的技术方案：

一种擦拭机构，用于擦拭传输中的基板，包括分别可往复移动地擦拭基板的上下两侧的上擦拭件和下擦拭件，所述上擦拭件和所述下擦拭件的移动方向平行于基板所在的承载面，并垂直于基板的传输方向，且所述上擦拭件与所述下擦拭件的移动方向始终相反。

作为其中一种实施方式，所述上擦拭件与所述下擦拭件均包括远离基板的背板和固定在所述背板内表面、用于接触背板的擦拭部。

作为其中一种实施方式，所述擦拭部为刷毛。

作为其中一种实施方式，所述的擦拭机构还包括分别设于基板的传输方向两侧的左支架、右支架，所述上擦拭件的所述背板两端均连接有第一连接轴，所述下擦拭件的所述背板两端均连接有第二连接轴，所述上擦拭件两端的所述第一连接轴、所述下擦拭件两端的所述第二连接轴均分别插设在所述左支架和所述右支架内并由所述左支架和所述右支架支撑。

作为其中一种实施方式，所述的擦拭机构还包括每个所述第一连接轴、每个所述第二连接轴表面分别套设的一个轴套，所述轴套嵌设并固定在相应的所述左支架或所述右支架内。

作为其中一种实施方式，所述的擦拭机构还包括固定在所述右支架一侧的固定座和中部可转动地连接在所述固定座上的联动杆，所述联动杆的两端分别与临近的所述第一连接轴和所述第二连接轴铰接。

作为其中一种实施方式，所述的擦拭机构还包括连接在其中一个所述第一连接轴端部的滑动座、嵌设于所述滑动座内的凸轮转子和驱动所述凸轮转子转动的马达，所述滑动座上开设有深度方向垂直于所述第一连接轴的凹槽，所述马达驱动所述凸轮转子在所述凹槽内转动而驱动所述滑动座沿所述第一连接轴的轴向往复移动。